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プラズマ技術で未来を切り拓く  

   株式会社魁半導体 
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大気圧プラズマ
 
大気圧プラズマ装置は常圧環境下でプラズマを生成し、真空排気を不要で表面改質を行う事ができます。
バッチ式ではないので、ラインを止める事なく処理でき、生産性の向上が期待できます。
 
ペン型大気圧プラズマ装置:P500-SM
  
ペン型大気圧プラズマ装置:P500-SM
ラボ用途・スポット処理に最適なペン型タイプの
大気圧プラズマ装置です。
照射面積が小さく、微細な部分やスポット処理に
便利にお使い頂けます。
照射面積約φ5~10mm、使用ガス:N2
 
簡易大気圧プラズマ装置 研究用途:A1000
 
簡易大気圧プラズマ装置【研究用途:A1000】
スリットタイプの簡易卓上大気圧プラズマ装置です。
ワンタッチの操作性で初心者にも簡単にお使い頂けいます。
処理面積:約φ20mm 使用ガス:N2

   
ハンディ型大気圧プラズマ装置 セミ生産用:S5000-BM
    
ハンディ型大気圧プラズマ装置【セミ生産用:S5000-BM】
スリットタイプのセミ生産向け大気圧プラズマ装置です。
パワー調整やガス流量調整機構が付き。緻密な処理が実現致します。
処理面積:約φ20mm 使用ガス:N2
    
誘電体バリア放電 スリットタイプ:SKIp-SLIt         (京都大学 酒井先生の技術)
    
誘電体バリア放電【スリットタイプ:SKIp-SLIt】
スリットタイプ幅広100mmの大気圧プラズマ装置。
パワー調整やガス流量調整機構が付き。緻密な処理が実現致します。
処理面積:約100mm×10mm程度 使用ガス:Ar
 
   
誘電体バリア放電 面状タイプ:SKIp-CBL300          (京都大学 酒井先生の技術)  
   
誘電体バリア放電【面状タイプ:SKIp-CBL300】
世界初!面型放電◇300mmの一括面処理大気圧プラズマ装置。
処理効果が高く、常圧下でサンプル全体を一括処理致します。
処理面積:約300×300mm程度 使用ガス:Ar
 
   
誘電体バリア放電 面状タイプ:SKIp-RTR300         (京都大学 酒井先生の技術)  
   
  誘電体バリア放電【面状タイプ:SKIp-RTR300】
世界初!面型放電300mmロールtoロールタイプの
大気圧プラズマ装置
高い処理効果で処理サンプルを高速で搬送できます。
処理面積:約300×300mm程度 使用ガス:Ar
 
   
 ダイレクト型大気圧プラズマ:D300-TB  
   


  
ダイレクト型大気圧プラズマ【D300-TB】
導入ガス不要、空気での表面改質が可能!
幅広のスリット照射が可能(~1000mm)

処理効果が高く、有機物除去、濡れ性改善やフィルムの表面改質に最適
  
 
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