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プラズマ技術で未来を切り拓く  

   株式会社魁半導体 
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真空プラズマ(表面改質)
 
真空プラズマ(表面改質)装置はチャンバー内にプラズマを均一に生成し、処理ムラが少なく、
バッチ式で一括してドライ洗浄や表面改質を行う事ができます。
現在、半導体や電子部品・医療用途まで幅広い分野で使われています。
 
卓上タイプ:YHS-R
   
卓上真空プラズマ装置【YHS-R】
ラボ用途に最適な卓上タイプ真空プラズマ装置です。
ワンタッチフルオート機能、及び、オートリーク機能を搭載。
取扱いが非常に容易で、真空機器初心者でも扱えます。
 
 
A4サイズ用:YHS-A4
 
A4サイズ用【YHS-A4】
YHS-Rの大型版。φ400のチャンバーで
大きなサンプルの処理が可能となります。
※ステージサイズはご要望に合わせてお作り致します。
   
  
ガス導入タイプ:YHS-G
 
     ガス導入タイプ【YHS-G】
様々なガス導入が可能な真空プラズマ装置。
ラボ用途に最適な卓上タイプ真空プラズマ装置です。
ガス流量調整・パワー調整・真空度モニター
取扱いが非常に容易で、真空機器初心者でも扱えます。
 
 
  
 ガス導入タイプ:YHS-GZA(φ250) 
 
 
 
ガス導入タイプ【YHS-GZA(φ250)】
様々なガスが導入可能。
φ250mmのステージサイズのため大きめのサンプルにも照射可能。
ラボレベルでプラズマ処理効果を試すのに適した価格です。
 
 
ガス導入タイプ:YHS-G用(φ400)
    
ガス導入タイプ【YHS-G(φ400)】
様々なガス導入が可能な真空プラズマ装置。
ガス流量調整・パワー調整・真空度モニター
緻密な処理条件の設定が可能です。
    
 
3次元体処理:YHS-DOS
    
3次元体処理【YHS-DOS】
回転式チャンバーを搭載。ガス導入可能で
様々なサンプルの表裏を一括処理できます。
Oリングやコンデンサー、紛体などと様々な用途にお使い頂けます。
    
 
回転式小型真空プラズマ装置:YHS-DΦS
    
回転式小型真空プラズマ装置【YHS-DΦS】
回転式チャンバーを搭載。様々なサンプルの表裏を一括処理できます。
Oリングやコンデンサー、紛体などと様々な用途にお使い頂けます。
また、卓上におけるサイズまで小型化しました。
   
 
 
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