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プラズマ技術で未来を切り拓く  

   株式会社魁半導体 
TEL:075-204-9589   

 
 
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真空プラズマ(微細加工・製膜)
 
プラズマ技術を駆使し、研究開発や試作に適した各種エッチングやスパッタ・製膜装置をお作り致しております。
 
プラズマエッチャー:RIE.S-200A 
   
プラズマエッチャー【RIE.S-200A】
低価格・短納期で対応可能!!
SiO2やSiのエッチングなどが可能です。
半導体集積回路などの微細回路を作製
 
スパッタ・エッチング 
   
スパッタ・エッチング
高精度のエッチングが可能。
優れた膜厚分布でスパッタできます。
 
薄膜堆積
 
薄膜堆積
CVD法を用い薄膜を基板上に堆積させる製膜装置
 
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