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プラズマ技術で未来を切り拓く  

   株式会社魁半導体 
TEL:075-204-9589   

 
 
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研究開発用
 
研究・開発に最適な小型プラズマ装置です。
 
真空プラズマ 卓上真空プラズマ:YHS-R
  
卓上真空プラズマ装置【YHS-R】
ラボ用途に最適な卓上タイプ真空プラズマ装置です。
ワンタッチフルオート機能、及び、オートリーク機能を搭載。
取扱いが非常に容易で、真空機器初心者でも扱えます。
 
真空プラズマ エッチング・スパッタ
 
エッチング・スパッタ
高精度のエッチングが可能。
優れた膜厚分布でスパッタできます。
   
真空プラズマ 薄膜堆積
    
薄膜堆積
CVD法を用い薄膜を基板上に堆積させる製膜装置
    
大気圧プラズマ ペン型大気圧プラズマ:P500-SM
    
簡易大気圧プラズマ【PEN型:P500-SM】
ラボ用途・スポット処理に最適なペン型タイプの
大気圧プラズマ装置です。
照射面積が小さく、微細な部分やスポット処理に
便利にお使い頂けます。
照射面積約φ5~10mm、使用ガス:N2
   
大気圧プラズマ 簡易タイプ大気圧プラズマ:A1000
   
簡易大気圧プラズマ【研究用途:A1000】
スリットタイプの簡易卓上大気圧プラズマ装置です。
ワンタッチの操作性で初心者にも簡単にお使い頂けいます。
処理面積:約φ20mm 使用ガス:N2
   
チューブプラズマ:S5000-T
   
チューブ内壁プラズマ処理【S5000-T】
表面処理 :カテーテル製造時の表面処理 医療用チューブの内壁処理
その他 :チューブ内洗浄 毛細管現象の効率向上
   
粉体プラズマ 簡易タイプ:ASS-400
   
簡易タイプ【ASS-400】
卓上タイプのコンパクトサイズ。
基礎研究用途にお勧めです。
   
粉体プラズマ 本格研究用:PPU-800
   
本格研究用【PPU-800】
駆動機構を導入し大容量の処理が可能です。
量産化に向けた本格的な開発にお勧めです。
   
 
 
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