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プラズマ技術で未来を切り拓く  

   株式会社魁半導体 
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セミ生産用
 
セミ生産に適したプラズマ装置です。
 
真空プラズマ A4サイズ用:YHS-A4
  
A4サイズ用【YHS-A4】
YHS-Rの大型版。φ400のチャンバーで
大きなサンプルの処理が可能となります。
※ステージサイズはご要望に合わせてお作り致します。
 
真空プラズマ ガス導入タイプ:YHS-Gφ400
 
ガス導入タイプ【YHS-Gφ400】
様々なガス導入が可能な真空プラズマ装置。
ガス流量調整・パワー調整・真空度モニター
緻密な処理条件の設定が可能です。
   
真空プラズマ 3次元体処理:YHS-DOS
    
3次元体処理【YHS-DOS】
回転式チャンバーを搭載。ガス導入可能で
様々なサンプルの表裏を一括処理できます。
Oリングやコンデンサー、紛体などと様々な用途にお使い頂けます。
    
大気圧プラズマ セミ生産用:S5000-BM
    
大気圧プラズマ【セミ生産用:S5000-BM】
スリットタイプのセミ生産向け大気圧プラズマ装置です。
パワー調整やガス流量調整機構が付き。緻密な処理が実現致します。
処理面積:約φ20mm 使用ガス:N2
 
大気圧プラズマ スリットタイプ:SKIp-SLIt
 
誘電体バリア放電【スリットタイプ:SKIp-SLIt】
スリットタイプ幅広100mmの大気圧プラズマ装置。
パワー調整やガス流量調整機構が付き。緻密な処理が実現致します。
処理面積:約100mm×10mm程度 使用ガス:Ar
 
誘電体バリア放電 面状タイプ:SKIp-CBL300
 
  誘電体バリア放電【面状タイプ:SKIp-CBL300】
世界初!面型放電◇300mmの一括面処理大気圧プラズマ装置。
処理効果が高く、常圧下でサンプル全体を一括処理致します。
処理面積:約300×300mm程度 使用ガス:Ar
 
 
 
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