Alimentation à haute fréquence

Décapage rapide et efficace du SiO2 et du Si et calcination des matières organiques par chauffage.

Traitement hydrophile du PTFE (téflon). Traitement hydrofuge de divers matériaux. Formation de films de verre. etc.

Gravure de SiO2 et de Si, etc. Fabrication de circuits intégrés à semi-conducteurs et d'autres microcircuits.

Traitement hydrofuge avec source solide. Formation d'une fine pellicule de résine sur la surface. Impact environnemental réduit. Peut être appliqué à d'autres résines.

Surfaces hydrophiles en téflon et imperméabilité des tissus non tissés.

Électrodes à plusieurs étages pour le traitement de masse. Différents récipients peuvent être traités en changeant la structure de l'électrode. L'utilisation d'un seul bouton est également possible. Idéal pour les applications de production.

Traitement par plasma de 80 bouteilles de 500 ml à la fois ! Différentes capacités et formes de bouteilles peuvent être traitées en changeant les électrodes !

Idéal pour le traitement des poudres et des condensateurs à puce ! Un mécanisme de rotation a été ajouté au plasma sous vide pour permettre de traiter toute la surface en une seule fois !