高周波電源
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- 真空
- 高周波電源
- プロセスガス導入可能
- 塗装・メッキ
- 接着・密着
- 培養・歯科医療
- 洗浄・殺菌
- エッチング
- 薄膜形成
- 撥水
- プラズマ耐久性のテスト
- 実験用
- 生産用
プラズマエッチャー加熱機構付 CPE-200AHM
SiO2やSiのエッチングや有機物のアッシングを、加熱することで高速・高効率に。
プラズマエッチャー加熱機構付 CPE-200AHM
SiO2やSiのエッチングや有機物のアッシングを、加熱することで高速・高効率に。
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- 撥水
- プラズマ耐久性のテスト
- 撥油・防汚(技術確立中)
- 親油(技術確立中)
- 実験用
- 生産用
プラズマエッチャーセミオートシリーズ CPE-Sシリーズ
PTFE(テフロン)の親水化。各種素材の撥水処理。ガラス膜の形成。など
プラズマエッチャーセミオートシリーズ CPE-Sシリーズ
PTFE(テフロン)の親水化。各種素材の撥水処理。ガラス膜の形成。など
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プラズマエッチャー CPEシリーズ
SiO2やSiのエッチングなど。半導体集積回路などの微細回路を作製。
プラズマエッチャー CPEシリーズ
SiO2やSiのエッチングなど。半導体集積回路などの微細回路を作製。
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- 生産用
撥水コーター CFC-550
固体ソースを用いた撥水処理。表面に樹脂の薄膜を形成。環境への負荷を低減。その他の樹脂にも応用可能。
撥水コーター CFC-550
固体ソースを用いた撥水処理。表面に樹脂の薄膜を形成。環境への負荷を低減。その他の樹脂にも応用可能。
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- 撥油・防汚(技術確立中)
- 親油(技術確立中)
- 実験用
プラズマエッチャー CPE-Bシリーズ
テフロン表面の親水化や不織布の撥水化など。
プラズマエッチャー CPE-Bシリーズ
テフロン表面の親水化や不織布の撥水化など。
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- 生産用
大容量真空プラズマ装置 SCBシリーズ
多段式の電極で大量処理。電極構造を変えることで様々な容器に対応。ワンボタン操作も可能。生産用途に最適。
大容量真空プラズマ装置 SCBシリーズ
多段式の電極で大量処理。電極構造を変えることで様々な容器に対応。ワンボタン操作も可能。生産用途に最適。
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- 真空
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- 撥油・防汚(技術確立中)
- 親油(技術確立中)
- 生産用
- 特殊形状への処理(フィルム状、粉粒体、チューブ、立体物等）
真空プラズマ装置 US-80A
一度に最大500mLボトルが80本迄プラズマ処理が可能！電極の交換により、様々な容量・形状のボトルに対応！
真空プラズマ装置 US-80A
一度に最大500mLボトルが80本迄プラズマ処理が可能！電極の交換により、様々な容量・形状のボトルに対応！
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- 真空
- 粉体処理
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- 分散・凝集改善
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- 特殊形状への処理(フィルム状、粉粒体、チューブ、立体物等）
回転式卓上真空プラズマ装置 YHS-DφS
粉体やチップコンデンサの処理に最適！真空プラズマに回転機構を追加し、全面を一括で処理できるように致しました！
回転式卓上真空プラズマ装置 YHS-DφS
粉体やチップコンデンサの処理に最適！真空プラズマに回転機構を追加し、全面を一括で処理できるように致しました！