- 真空
- 高周波電源
- プロセスガス導入可能
- 塗装・メッキ
- 接着・密着
- 培養・歯科医療
- 洗浄・殺菌
- エッチング
- 薄膜形成
- 撥水
- プラズマ耐久性のテスト
- 実験用
- 生産用
プラズマエッチャー加熱機構付 CPE-200AHM
SiO2やSiのエッチングや有機物のアッシングを、加熱することで高速・高効率に。
製品概要
■プラズマエッチャーCPEシリーズに、ステージ加熱付きが新登場
■最高400℃まで加熱可能
■処理時間短縮、耐久試験の加速試験に
■タッチパネルで簡単操作(プラズマ操作部)
■PID制御による高精度温度制御
仕様
装置名称 プラズマエッチャー加熱機構付
型式 CPE-200AHM
外形寸法 W560mm×D690mm×H1650mm
(電極ステージ)直径200mm
照射範囲
出力調整
ステージ加熱 最高温度400℃
ガス導入 2系統
電源 単相200V, 30A
機能