hydrofuge

Le premier procédé de dépôt chimique en phase vapeur par plasma sûr de l'industrie pour le dépôt direct à partir de matières premières liquides.

Décapage rapide et efficace du SiO2 et du Si et calcination des matières organiques par chauffage.

Ligne complète de l'enroulement au déroulement dans la section de production et de traitement ! Installation facile du processus souhaité. Adaptation aux dimensions souhaitées par le client. La vitesse et la tension peuvent également être réglées à n'importe quel niveau, ce qui permet une grande flexibilité du processus.

Stockage facile des images et des données relatives à l'angle de contact sur le PC connecté. Le volume des gouttelettes peut être contrôlé à partir de 0,1 µL. Des images fixes et animées peuvent être sauvegardées.

Traitement hydrophile du PTFE (téflon). Traitement hydrofuge de divers matériaux. Formation de films de verre. etc.

Imperméabilisation des matériaux. Imperméabilisation des tissus et du papier, protection contre les taches et l'humidité. Imperméabilisation des composants électroniques, etc.

Gravure de SiO2 et de Si, etc. Fabrication de circuits intégrés à semi-conducteurs et d'autres microcircuits.

Traitement hydrofuge avec source solide. Formation d'une fine pellicule de résine sur la surface. Impact environnemental réduit. Peut être appliqué à d'autres résines.

Surfaces hydrophiles en téflon et imperméabilité des tissus non tissés.

Électrodes à plusieurs étages pour le traitement de masse. Différents récipients peuvent être traités en changeant la structure de l'électrode. L'utilisation d'un seul bouton est également possible. Idéal pour les applications de production.