Xử lý kị nước

Thiết bị plasma CVD an toàn đầu tiên trong ngành, tạo màng trực tiếp từ nguyên liệu dạng lỏng.

Khắc khô các lớp SiO₂ (etching), Si và phân hủy (ashing) các hợp chất hữu cơ với tốc độ cao và hiệu quả cao nhờ chức năng gia nhiệt.

• Từ cuộn cấp đến cuộn thu, toàn bộ dây chuyền đều nằm trong bộ phận xử lý.
• Dễ dàng cài đặt quy trình mong muốn
• Hỗ trợ kích thước tuỳ chỉnh theo yêu cầu
• Có thể tuỳ chỉnh tốc độ và lực căng, mang lại tính linh hoạt cao trong quá trình xử lý

• Có thể dễ dàng lưu hình ảnh và dữ liệu góc tiếp xúc vào máy tính đi kèm.
• Dung tích giọt có thể được điều khiển từ 0.1 μL.
• Hỗ trợ lưu cả hình ảnh tĩnh và video.

Tạo tính ưa nước cho PTFE (Teflon), xử lý chống thấm nước cho nhiều loại vật liệu, tạo màng kính, v.v.

• Tạo tính chống thấm cho nhiều loại vật liệu.
• Dùng cho vải, giấy để chống nước, chống bám bẩn, chống ẩm.
• Cũng thích hợp để chống nước cho các linh kiện điện tử.

Dùng cho etching SiO₂, Si, thích hợp với quy trình chế tạo mạch tích hợp bán dẫn có cấu trúc vi mô

• Xử lý chống thấm bằng nguồn vật liệu rắn
• Tạo màng mỏng bằng nhựa trên bề mặt vật thể
• Giảm thiểu các tác động đến môi trường
• Có thể ứng dụng với nhiều loại nhựa khác nhau

Ví dụ, làm cho bề mặt Teflon trở nên ưa nước hoặc răng tính chống thấm nước của vải không dệt

• Có thể xử lý số lượng mẫu lớn bằng hệ thống điện cực nhiều tầng.
• Có thể thay đổi cấu trúc điện cực để phù hợp với nhiều loại vật chứa khác nhau.
• Hỗ trợ vận hành nhờ chế độ tự động chỉ với 1 nút bấm
• Thiết kế hướng đến mục đích sản xuất.