Chân không
16Đã tìm thấy bài viết phù hợp
-
- Chân không
- Không dùng khí quy trình
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất
Thiết bị plasma chân không dành cho kim tiêm – TSM-90
• Thiết bị TSM-90 là dòng plasma chân không chuyên dụng cho kim tiêm, lần đầu tiên được phát triển trong ngành.
• Công nghệ plasma giúp tăng hoạt tính bề mặt, loại bỏ tạp chất, từ đó nâng cao độ bám dính giữa kim và phần đế, đặc biệt quan trọng trong sản xuất kim tiêm y tế.
• Sử dụng công nghệ quy trình khô không dùng hóa chất, TSM-90 mang lại giải pháp thân thiện với môi trường.
Thiết bị plasma chân không dành cho kim tiêm – TSM-90
• Thiết bị TSM-90 là dòng plasma chân không chuyên dụng cho kim tiêm, lần đầu tiên được phát triển trong ngành.
• Công nghệ plasma giúp tăng hoạt tính bề mặt, loại bỏ tạp chất, từ đó nâng cao độ bám dính giữa kim và phần đế, đặc biệt quan trọng trong sản xuất kim tiêm y tế.
• Sử dụng công nghệ quy trình khô không dùng hóa chất, TSM-90 mang lại giải pháp thân thiện với môi trường.
-
- Chân không
- Không dùng khí quy trình
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất
Nguồn cao áp xoay chiều cho thiết bị plasma chân không cỡ nhỏ – PKM-VP20
Nguồn điện chuyên dụng hiệu năng cao dùng cho plasma đầu tiên trong ngành.
Nguồn cao áp xoay chiều cho thiết bị plasma chân không cỡ nhỏ – PKM-VP20
Nguồn điện chuyên dụng hiệu năng cao dùng cho plasma đầu tiên trong ngành.
-
- Chân không
- Không dùng khí quy trình
- Có thể dùng khí quy trình
- Tạo màng mỏng
- Xử lý kị nước
- Dành cho R&D
Thiết bị tạo màng mỏng bằng phương pháp bay hơi trực tiếp DH-CVD
Thiết bị plasma CVD an toàn đầu tiên trong ngành, tạo màng trực tiếp từ nguyên liệu dạng lỏng.
Thiết bị tạo màng mỏng bằng phương pháp bay hơi trực tiếp DH-CVD
Thiết bị plasma CVD an toàn đầu tiên trong ngành, tạo màng trực tiếp từ nguyên liệu dạng lỏng.
-
- Nguồn cao tần RF
- Chân không
- Có thể dùng khí quy trình
- Khắc / Etching
- Kiểm tra độ bền plasma
- Tạo màng mỏng
- Xử lý kị nước
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất
Máy plasma khắc (etcher) có tích hợp gia nhiệt CPE-200AHM
Khắc khô các lớp SiO₂ (etching), Si và phân hủy (ashing) các hợp chất hữu cơ với tốc độ cao và hiệu quả cao nhờ chức năng gia nhiệt.
Máy plasma khắc (etcher) có tích hợp gia nhiệt CPE-200AHM
Khắc khô các lớp SiO₂ (etching), Si và phân hủy (ashing) các hợp chất hữu cơ với tốc độ cao và hiệu quả cao nhờ chức năng gia nhiệt.
-
- Nguồn cao tần RF
- Chân không
- Có thể dùng khí quy trình
- Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
- Ưa dầu (đang phát triển)
- Khắc / Etching
- Kiểm tra độ bền plasma
- Tạo màng mỏng
- Xử lý kị nước
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất
Thiết bị plasma etcher bán tự động dòng CPE-S Series
Tạo tính ưa nước cho PTFE (Teflon), xử lý chống thấm nước cho nhiều loại vật liệu, tạo màng kính, v.v.
Thiết bị plasma etcher bán tự động dòng CPE-S Series
Tạo tính ưa nước cho PTFE (Teflon), xử lý chống thấm nước cho nhiều loại vật liệu, tạo màng kính, v.v.
-
- Chân không
- Có thể dùng khí quy trình
- Xử lý kị nước
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
Thiết bị chống thấm nước để bàn YHS-Ω
• Tạo tính chống thấm cho nhiều loại vật liệu.
• Dùng cho vải, giấy để chống nước, chống bám bẩn, chống ẩm.
• Cũng thích hợp để chống nước cho các linh kiện điện tử.Thiết bị chống thấm nước để bàn YHS-Ω
• Tạo tính chống thấm cho nhiều loại vật liệu.
• Dùng cho vải, giấy để chống nước, chống bám bẩn, chống ẩm.
• Cũng thích hợp để chống nước cho các linh kiện điện tử. -
- Nguồn cao tần RF
- Chân không
- Có thể dùng khí quy trình
- Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
- Ưa dầu (đang phát triển)
- Khắc / Etching
- Kiểm tra độ bền plasma
- Tạo màng mỏng
- Xử lý kị nước
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất
Thiết bị plasma etcher dòng CPE Series
Dùng cho etching SiO₂, Si, thích hợp với quy trình chế tạo mạch tích hợp bán dẫn có cấu trúc vi mô
Thiết bị plasma etcher dòng CPE Series
Dùng cho etching SiO₂, Si, thích hợp với quy trình chế tạo mạch tích hợp bán dẫn có cấu trúc vi mô
-
- Chân không
- Có thể dùng khí quy trình
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
Thiết bị plasma chân không hỗ trợ nhiều loại khí quy trình YHS-G
• Thiết bị plasma chân không hỗ trợ nhiều loại khí quy trình.
• Cho phép thiết lập điều kiện xử lý một cách tinh chỉnh nhờ khả năng điều chỉnh lưu lượng khí, công suất phát plasma, và giám sát áp suất chân không.
• Vận hành đơn giản bằng một nút bấm, dễ dàng trang bị với chi phí phù hợp.
• Dùng để xử lý bề mặt trước khi tạo màng mỏng, xử lý trước khi hàn anod, xử lý trước khi sơn phủ, cũng như trong các ứng dụng sinh học và y tế.Thiết bị plasma chân không hỗ trợ nhiều loại khí quy trình YHS-G
• Thiết bị plasma chân không hỗ trợ nhiều loại khí quy trình.
• Cho phép thiết lập điều kiện xử lý một cách tinh chỉnh nhờ khả năng điều chỉnh lưu lượng khí, công suất phát plasma, và giám sát áp suất chân không.
• Vận hành đơn giản bằng một nút bấm, dễ dàng trang bị với chi phí phù hợp.
• Dùng để xử lý bề mặt trước khi tạo màng mỏng, xử lý trước khi hàn anod, xử lý trước khi sơn phủ, cũng như trong các ứng dụng sinh học và y tế. -
- Chân không
- Không dùng khí quy trình
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
Thiết bị chân không để bàn YHS-R
Thiết kế nhỏ gọn, chi phí phù hợp. Thích hợp cho xử lý bề mặt, xử lý trước khi tạo màng mỏng, trước khi hàn anod, trước khi sơn phủ, cùng nhiều ứng dụng khác trong sinh học và y tế
Thiết bị chân không để bàn YHS-R
Thiết kế nhỏ gọn, chi phí phù hợp. Thích hợp cho xử lý bề mặt, xử lý trước khi tạo màng mỏng, trước khi hàn anod, trước khi sơn phủ, cùng nhiều ứng dụng khác trong sinh học và y tế
-
- Chân không
- Không dùng khí quy trình
- Sơn phủ / Mạ
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
Thiết bị plasma chân không cỡ nhỏ NMR-Gts
• Dùng để xử lý bề mặt và làm sạch các vật liệu dạng tấm, dạng sợi, dạng phim.
• Thích hợp cho xử lý trước khi dán, in, phủ; xử lý trước cho đĩa nuôi cấy tế bào (giúp tăng khả năng bám và phát triển của tế bào); và khử khuẩn các vật liệu y tế.Thiết bị plasma chân không cỡ nhỏ NMR-Gts
• Dùng để xử lý bề mặt và làm sạch các vật liệu dạng tấm, dạng sợi, dạng phim.
• Thích hợp cho xử lý trước khi dán, in, phủ; xử lý trước cho đĩa nuôi cấy tế bào (giúp tăng khả năng bám và phát triển của tế bào); và khử khuẩn các vật liệu y tế.
Tìm theo danh mục
Tìm theo mục đích sử dụng
- Kỵ nước / Ưa dầu (đang phát triển)
- Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
- Ưa dầu (đang phát triển)
- Kỵ nước/dầu (đang phát triển)
- Cải thiện phân tán/kết tụ
- Khắc / Etching
- Kiểm tra độ bền plasma
- Tạo màng mỏng
- Xử lý kị nước
- Xử lý hình dạng đặc biệt (dạng phim, bột, ống, vật thể 3D, v.v.)
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất