Ưa dầu (đang phát triển)
9Đã tìm thấy bài viết phù hợp
-
- Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
- Ưa dầu (đang phát triển)
- Kỵ nước/dầu (đang phát triển)
- Sơn phủ / Mạ
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất
Thiết bị chuyển động hai trục XY (XY-ROBO-300*300)
• Kết hợp với thiết bị plasma áp suất khí quyển giúp nâng cao độ chính xác chiếu plasma
• Điều khiển bằng máy tính, lập trình linh hoạtThiết bị chuyển động hai trục XY (XY-ROBO-300*300)
• Kết hợp với thiết bị plasma áp suất khí quyển giúp nâng cao độ chính xác chiếu plasma
• Điều khiển bằng máy tính, lập trình linh hoạt -
- Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
- Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
- Ưa dầu (đang phát triển)
- Tạo màng mỏng
- Xử lý kị nước
- Sơn phủ / Mạ
- Dành cho R&D
Thiết bị cuộn phim liên tục kiểu Roll-to-Roll ROLL-15
• Từ cuộn cấp đến cuộn thu, toàn bộ dây chuyền đều nằm trong bộ phận xử lý.
• Dễ dàng cài đặt quy trình mong muốn
• Hỗ trợ kích thước tuỳ chỉnh theo yêu cầu
• Có thể tuỳ chỉnh tốc độ và lực căng, mang lại tính linh hoạt cao trong quá trình xử lýThiết bị cuộn phim liên tục kiểu Roll-to-Roll ROLL-15
• Từ cuộn cấp đến cuộn thu, toàn bộ dây chuyền đều nằm trong bộ phận xử lý.
• Dễ dàng cài đặt quy trình mong muốn
• Hỗ trợ kích thước tuỳ chỉnh theo yêu cầu
• Có thể tuỳ chỉnh tốc độ và lực căng, mang lại tính linh hoạt cao trong quá trình xử lý -
- Nguồn cao tần RF
- Chân không
- Có thể dùng khí quy trình
- Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
- Ưa dầu (đang phát triển)
- Khắc / Etching
- Kiểm tra độ bền plasma
- Tạo màng mỏng
- Xử lý kị nước
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất
Thiết bị plasma etcher bán tự động dòng CPE-S Series
Tạo tính ưa nước cho PTFE (Teflon), xử lý chống thấm nước cho nhiều loại vật liệu, tạo màng kính, v.v.
Thiết bị plasma etcher bán tự động dòng CPE-S Series
Tạo tính ưa nước cho PTFE (Teflon), xử lý chống thấm nước cho nhiều loại vật liệu, tạo màng kính, v.v.
-
- Nguồn cao tần RF
- Chân không
- Có thể dùng khí quy trình
- Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
- Ưa dầu (đang phát triển)
- Khắc / Etching
- Kiểm tra độ bền plasma
- Tạo màng mỏng
- Xử lý kị nước
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất
Thiết bị plasma etcher dòng CPE Series
Dùng cho etching SiO₂, Si, thích hợp với quy trình chế tạo mạch tích hợp bán dẫn có cấu trúc vi mô
Thiết bị plasma etcher dòng CPE Series
Dùng cho etching SiO₂, Si, thích hợp với quy trình chế tạo mạch tích hợp bán dẫn có cấu trúc vi mô
-
- Nguồn cao tần RF
- Chân không
- Có thể dùng khí quy trình
- Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
- Ưa dầu (đang phát triển)
- Khắc / Etching
- Kiểm tra độ bền plasma
- Tạo màng mỏng
- Xử lý kị nước
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
Thiết bị plasma etcher dòng CPE-B Series
Ví dụ, làm cho bề mặt Teflon trở nên ưa nước hoặc răng tính chống thấm nước của vải không dệt
Thiết bị plasma etcher dòng CPE-B Series
Ví dụ, làm cho bề mặt Teflon trở nên ưa nước hoặc răng tính chống thấm nước của vải không dệt
-
- Nguồn cao tần RF
- Chân không
- Có thể dùng khí quy trình
- Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
- Ưa dầu (đang phát triển)
- Xử lý kị nước
- Xử lý hình dạng đặc biệt (dạng phim, bột, ống, vật thể 3D, v.v.)
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho sản xuất
Thiết bị plasma chân không US-80A
• Xử lý đồng thời lên đến 80 chai nhựa dung tích 500 mL
• Có thể thay đổi điện cực để tương thích với nhiều loại chai với dung tích và hình dạng khác nhauThiết bị plasma chân không US-80A
• Xử lý đồng thời lên đến 80 chai nhựa dung tích 500 mL
• Có thể thay đổi điện cực để tương thích với nhiều loại chai với dung tích và hình dạng khác nhau -
- Áp suất khí quyển (plasma từ xa)
- Kỵ nước / Ưa dầu (đang phát triển)
- Ưa dầu (đang phát triển)
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
Thiết bị plasma áp suất khí quyển đơn giản A1000
Dạng cầm tay, dễ dàng thao tác. Phù hợp cho xử lý bề mặt, xử lý trước khi tạo màng mỏng, hàn anod, sơn phủ, cũng như ứng dụng trong sinh học và y tế
Thiết bị plasma áp suất khí quyển đơn giản A1000
Dạng cầm tay, dễ dàng thao tác. Phù hợp cho xử lý bề mặt, xử lý trước khi tạo màng mỏng, hàn anod, sơn phủ, cũng như ứng dụng trong sinh học và y tế
-
- Áp suất khí quyển (plasma từ xa)
- Kỵ nước / Ưa dầu (đang phát triển)
- Ưa dầu (đang phát triển)
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất
Thiết bị plasma áp suất khí quyển dạng cầm tay S5000-BM
• Tạo plasma ổn định dưới điều kiện áp suất khí quyển mà không gây tổn hại do điện tích
• Có thể xử lý kim loại trên chất cách điện mà không làm hư hại mẫu vật
• Gần như không gây hại bởi nhiệt
• Plasma hoá bằng khí nitơ, không cần sử dụng các khí hiếm đắt tiền
• Có thể nâng cấp để xử lý diện tích lớn
• Dễ bảo trì
• Rất lý tưởng để tăng độ bám dính trong wire bonding
• Cũng có thể ứng dụng trong lĩnh vực sinh học và y tếThiết bị plasma áp suất khí quyển dạng cầm tay S5000-BM
• Tạo plasma ổn định dưới điều kiện áp suất khí quyển mà không gây tổn hại do điện tích
• Có thể xử lý kim loại trên chất cách điện mà không làm hư hại mẫu vật
• Gần như không gây hại bởi nhiệt
• Plasma hoá bằng khí nitơ, không cần sử dụng các khí hiếm đắt tiền
• Có thể nâng cấp để xử lý diện tích lớn
• Dễ bảo trì
• Rất lý tưởng để tăng độ bám dính trong wire bonding
• Cũng có thể ứng dụng trong lĩnh vực sinh học và y tế -
- Xử lý bột
- Nguồn cao tần RF
- Chân không
- Có thể dùng khí quy trình
- Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
- Ưa dầu (đang phát triển)
- Cải thiện phân tán/kết tụ
- Khắc / Etching
- Tạo màng mỏng
- Xử lý kị nước
- Xử lý hình dạng đặc biệt (dạng phim, bột, ống, vật thể 3D, v.v.)
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất
Thiết bị plasma chân không để bàn dạng quay YHS-DφS
Lý tưởng cho xử lý bột và chip tụ điện (chip capacitor). Kết hợp plasma với cơ cấu quay, giúp xử lý đồng đều toàn bộ bề mặt chỉ trong một lần
Thiết bị plasma chân không để bàn dạng quay YHS-DφS
Lý tưởng cho xử lý bột và chip tụ điện (chip capacitor). Kết hợp plasma với cơ cấu quay, giúp xử lý đồng đều toàn bộ bề mặt chỉ trong một lần
Tìm theo danh mục
Tìm theo mục đích sử dụng
- Kỵ nước / Ưa dầu (đang phát triển)
- Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
- Ưa dầu (đang phát triển)
- Kỵ nước/dầu (đang phát triển)
- Cải thiện phân tán/kết tụ
- Khắc / Etching
- Kiểm tra độ bền plasma
- Tạo màng mỏng
- Xử lý kị nước
- Xử lý hình dạng đặc biệt (dạng phim, bột, ống, vật thể 3D, v.v.)
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất