Kết dính / Bám dính
32Đã tìm thấy bài viết phù hợp
-
- Chân không
- Không dùng khí quy trình
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất
Thiết bị plasma chân không dành cho kim tiêm – TSM-90
• Thiết bị TSM-90 là dòng plasma chân không chuyên dụng cho kim tiêm, lần đầu tiên được phát triển trong ngành.
• Công nghệ plasma giúp tăng hoạt tính bề mặt, loại bỏ tạp chất, từ đó nâng cao độ bám dính giữa kim và phần đế, đặc biệt quan trọng trong sản xuất kim tiêm y tế.
• Sử dụng công nghệ quy trình khô không dùng hóa chất, TSM-90 mang lại giải pháp thân thiện với môi trường.
Thiết bị plasma chân không dành cho kim tiêm – TSM-90
• Thiết bị TSM-90 là dòng plasma chân không chuyên dụng cho kim tiêm, lần đầu tiên được phát triển trong ngành.
• Công nghệ plasma giúp tăng hoạt tính bề mặt, loại bỏ tạp chất, từ đó nâng cao độ bám dính giữa kim và phần đế, đặc biệt quan trọng trong sản xuất kim tiêm y tế.
• Sử dụng công nghệ quy trình khô không dùng hóa chất, TSM-90 mang lại giải pháp thân thiện với môi trường.
-
- Chân không
- Không dùng khí quy trình
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất
Nguồn cao áp xoay chiều cho thiết bị plasma chân không cỡ nhỏ – PKM-VP20
Nguồn điện chuyên dụng hiệu năng cao dùng cho plasma đầu tiên trong ngành.
Nguồn cao áp xoay chiều cho thiết bị plasma chân không cỡ nhỏ – PKM-VP20
Nguồn điện chuyên dụng hiệu năng cao dùng cho plasma đầu tiên trong ngành.
-
- Áp suất khí quyển (plasma trực tiếp)
- Không dùng khí quy trình
- Có thể dùng khí quy trình
- Xử lý hình dạng đặc biệt (dạng phim, bột, ống, vật thể 3D, v.v.)
- Sơn phủ / Mạ
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho sản xuất
Thiết bị ép phim bằng plasma trực tiếp áp suất khí quyển D500-HR
Thiết bị sử dụng plasma trực tiếp bằng phóng điện hàng rào điện môi (DBD), có khả năng xử lý đồng thời hai lớp phim và thực hiện ép nhiệt ngay sau đó.
Thiết bị ép phim bằng plasma trực tiếp áp suất khí quyển D500-HR
Thiết bị sử dụng plasma trực tiếp bằng phóng điện hàng rào điện môi (DBD), có khả năng xử lý đồng thời hai lớp phim và thực hiện ép nhiệt ngay sau đó.
-
- Nguồn cao tần RF
- Chân không
- Có thể dùng khí quy trình
- Khắc / Etching
- Kiểm tra độ bền plasma
- Tạo màng mỏng
- Xử lý kị nước
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất
Máy plasma khắc (etcher) có tích hợp gia nhiệt CPE-200AHM
Khắc khô các lớp SiO₂ (etching), Si và phân hủy (ashing) các hợp chất hữu cơ với tốc độ cao và hiệu quả cao nhờ chức năng gia nhiệt.
Máy plasma khắc (etcher) có tích hợp gia nhiệt CPE-200AHM
Khắc khô các lớp SiO₂ (etching), Si và phân hủy (ashing) các hợp chất hữu cơ với tốc độ cao và hiệu quả cao nhờ chức năng gia nhiệt.
-
- Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
- Ưa dầu (đang phát triển)
- Kỵ nước/dầu (đang phát triển)
- Sơn phủ / Mạ
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất
Thiết bị chuyển động hai trục XY (XY-ROBO-300*300)
• Kết hợp với thiết bị plasma áp suất khí quyển giúp nâng cao độ chính xác chiếu plasma
• Điều khiển bằng máy tính, lập trình linh hoạtThiết bị chuyển động hai trục XY (XY-ROBO-300*300)
• Kết hợp với thiết bị plasma áp suất khí quyển giúp nâng cao độ chính xác chiếu plasma
• Điều khiển bằng máy tính, lập trình linh hoạt -
- Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
- Khắc / Etching
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho sản xuất
Chip kiểm tra plasma Plasma Checker
• Cách sử dụng đơn giản – chỉ cần chiếu plasma lên chip kiểm tra. Dễ dàng đánh giá hiệu quả của xử lý plasma bằng quan sát trực quan.
• Sử dụng vật liệu kim loại nên có thể sử dụng trong môi trường nhiệt độ cao.
• Có thể thay đổi độ dày của lớp phủ hoặc vật liệu theo yêu cầu của khác hàngChip kiểm tra plasma Plasma Checker
• Cách sử dụng đơn giản – chỉ cần chiếu plasma lên chip kiểm tra. Dễ dàng đánh giá hiệu quả của xử lý plasma bằng quan sát trực quan.
• Sử dụng vật liệu kim loại nên có thể sử dụng trong môi trường nhiệt độ cao.
• Có thể thay đổi độ dày của lớp phủ hoặc vật liệu theo yêu cầu của khác hàng -
- Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
- Tạo màng mỏng
- Xử lý kị nước
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
Thiết bị đo góc tiếp xúc tự động LSE-ME4
• Có thể dễ dàng lưu hình ảnh và dữ liệu góc tiếp xúc vào máy tính đi kèm.
• Dung tích giọt có thể được điều khiển từ 0.1 μL.
• Hỗ trợ lưu cả hình ảnh tĩnh và video.Thiết bị đo góc tiếp xúc tự động LSE-ME4
• Có thể dễ dàng lưu hình ảnh và dữ liệu góc tiếp xúc vào máy tính đi kèm.
• Dung tích giọt có thể được điều khiển từ 0.1 μL.
• Hỗ trợ lưu cả hình ảnh tĩnh và video. -
- Nguồn cao tần RF
- Chân không
- Có thể dùng khí quy trình
- Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
- Ưa dầu (đang phát triển)
- Khắc / Etching
- Kiểm tra độ bền plasma
- Tạo màng mỏng
- Xử lý kị nước
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất
Thiết bị plasma etcher bán tự động dòng CPE-S Series
Tạo tính ưa nước cho PTFE (Teflon), xử lý chống thấm nước cho nhiều loại vật liệu, tạo màng kính, v.v.
Thiết bị plasma etcher bán tự động dòng CPE-S Series
Tạo tính ưa nước cho PTFE (Teflon), xử lý chống thấm nước cho nhiều loại vật liệu, tạo màng kính, v.v.
-
- Chân không
- Có thể dùng khí quy trình
- Xử lý kị nước
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
Thiết bị chống thấm nước để bàn YHS-Ω
• Tạo tính chống thấm cho nhiều loại vật liệu.
• Dùng cho vải, giấy để chống nước, chống bám bẩn, chống ẩm.
• Cũng thích hợp để chống nước cho các linh kiện điện tử.Thiết bị chống thấm nước để bàn YHS-Ω
• Tạo tính chống thấm cho nhiều loại vật liệu.
• Dùng cho vải, giấy để chống nước, chống bám bẩn, chống ẩm.
• Cũng thích hợp để chống nước cho các linh kiện điện tử. -
- Nguồn cao tần RF
- Chân không
- Có thể dùng khí quy trình
- Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
- Ưa dầu (đang phát triển)
- Khắc / Etching
- Kiểm tra độ bền plasma
- Tạo màng mỏng
- Xử lý kị nước
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất
Thiết bị plasma etcher dòng CPE Series
Dùng cho etching SiO₂, Si, thích hợp với quy trình chế tạo mạch tích hợp bán dẫn có cấu trúc vi mô
Thiết bị plasma etcher dòng CPE Series
Dùng cho etching SiO₂, Si, thích hợp với quy trình chế tạo mạch tích hợp bán dẫn có cấu trúc vi mô
Tìm theo danh mục
Tìm theo mục đích sử dụng
- Kỵ nước / Ưa dầu (đang phát triển)
- Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
- Ưa dầu (đang phát triển)
- Kỵ nước/dầu (đang phát triển)
- Cải thiện phân tán/kết tụ
- Khắc / Etching
- Kiểm tra độ bền plasma
- Tạo màng mỏng
- Xử lý kị nước
- Xử lý hình dạng đặc biệt (dạng phim, bột, ống, vật thể 3D, v.v.)
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất