Sơn phủ / Mạ
38Đã tìm thấy bài viết phù hợp
-
- Chân không
- Không dùng khí quy trình
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất
Nguồn cao áp xoay chiều cho thiết bị plasma chân không cỡ nhỏ – PKM-VP20
Nguồn điện chuyên dụng hiệu năng cao dùng cho plasma đầu tiên trong ngành.
Nguồn cao áp xoay chiều cho thiết bị plasma chân không cỡ nhỏ – PKM-VP20
Nguồn điện chuyên dụng hiệu năng cao dùng cho plasma đầu tiên trong ngành.
-
- Áp suất khí quyển (plasma trực tiếp)
- Không dùng khí quy trình
- Có thể dùng khí quy trình
- Xử lý hình dạng đặc biệt (dạng phim, bột, ống, vật thể 3D, v.v.)
- Sơn phủ / Mạ
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho sản xuất
Thiết bị ép phim bằng plasma trực tiếp áp suất khí quyển D500-HR
Thiết bị sử dụng plasma trực tiếp bằng phóng điện hàng rào điện môi (DBD), có khả năng xử lý đồng thời hai lớp phim và thực hiện ép nhiệt ngay sau đó.
Thiết bị ép phim bằng plasma trực tiếp áp suất khí quyển D500-HR
Thiết bị sử dụng plasma trực tiếp bằng phóng điện hàng rào điện môi (DBD), có khả năng xử lý đồng thời hai lớp phim và thực hiện ép nhiệt ngay sau đó.
-
- Nguồn cao tần RF
- Chân không
- Có thể dùng khí quy trình
- Khắc / Etching
- Kiểm tra độ bền plasma
- Tạo màng mỏng
- Xử lý kị nước
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất
Máy plasma khắc (etcher) có tích hợp gia nhiệt CPE-200AHM
Khắc khô các lớp SiO₂ (etching), Si và phân hủy (ashing) các hợp chất hữu cơ với tốc độ cao và hiệu quả cao nhờ chức năng gia nhiệt.
Máy plasma khắc (etcher) có tích hợp gia nhiệt CPE-200AHM
Khắc khô các lớp SiO₂ (etching), Si và phân hủy (ashing) các hợp chất hữu cơ với tốc độ cao và hiệu quả cao nhờ chức năng gia nhiệt.
-
- Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
- Tạo màng mỏng
- Sơn phủ / Mạ
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
Máy phun điện ESC-100
• Tạo màng mỏng có độ đồng đều cao (có thể đạt đến vài micromet).
• Phun phủ ở nhiệt độ phòng và áp suất khí quyển, không cần môi trường chân không hay nhiệt độ cao.
• Không làm bẩn tấm mask, dễ dàng bảo trì.Máy phun điện ESC-100
• Tạo màng mỏng có độ đồng đều cao (có thể đạt đến vài micromet).
• Phun phủ ở nhiệt độ phòng và áp suất khí quyển, không cần môi trường chân không hay nhiệt độ cao.
• Không làm bẩn tấm mask, dễ dàng bảo trì. -
- Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
- Tạo màng mỏng
- Sơn phủ / Mạ
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
Máy tạo lớp phủ bằng phương pháp nhúng Dip Coater YN2-TKB
• Phương pháp phủ tạo màng mỏng bằng cách nhúng vật liệu nền vào dung dịch và kéo lên, lớp màng sẽ hình thành trên bề mặt.
• Độ dày màng có thể điều chỉnh tùy theo tốc độ kéo lên.
• Có thể phủ lên cả vật liệu có bề mặt gồ ghề.
• Không cần dùng thùng chứa chuyên dụng nên dễ bảo trì.
• Hỗ trợ kích thước đặt hàng theo yêu cầu.
• Vì quy trình diễn ra trong lòng thùng chứa nên lượng dung dịch lãng phí là rất ít.Máy tạo lớp phủ bằng phương pháp nhúng Dip Coater YN2-TKB
• Phương pháp phủ tạo màng mỏng bằng cách nhúng vật liệu nền vào dung dịch và kéo lên, lớp màng sẽ hình thành trên bề mặt.
• Độ dày màng có thể điều chỉnh tùy theo tốc độ kéo lên.
• Có thể phủ lên cả vật liệu có bề mặt gồ ghề.
• Không cần dùng thùng chứa chuyên dụng nên dễ bảo trì.
• Hỗ trợ kích thước đặt hàng theo yêu cầu.
• Vì quy trình diễn ra trong lòng thùng chứa nên lượng dung dịch lãng phí là rất ít. -
- Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
- Ưa dầu (đang phát triển)
- Kỵ nước/dầu (đang phát triển)
- Sơn phủ / Mạ
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất
Thiết bị chuyển động hai trục XY (XY-ROBO-300*300)
• Kết hợp với thiết bị plasma áp suất khí quyển giúp nâng cao độ chính xác chiếu plasma
• Điều khiển bằng máy tính, lập trình linh hoạtThiết bị chuyển động hai trục XY (XY-ROBO-300*300)
• Kết hợp với thiết bị plasma áp suất khí quyển giúp nâng cao độ chính xác chiếu plasma
• Điều khiển bằng máy tính, lập trình linh hoạt -
- Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
- Sơn phủ / Mạ
- Dành cho R&D
Thiết bị cuộn liên tục (Reel-to-Reel) REEL-15
• Có thể kết hợp với thiết bị plasma áp suất khí quyển của chúng tôi
• Phù hợp nhất cho xử lý liên tục các mẫu dạng dây/thanh
• Quy trình mong muốn có thể cài đặt tại khu vực xử lý
• Hỗ trợ kích thước tuỳ chọn theo yêu cầu
• Tốc độ cuộn có thể điều chỉnh tuỳ ýThiết bị cuộn liên tục (Reel-to-Reel) REEL-15
• Có thể kết hợp với thiết bị plasma áp suất khí quyển của chúng tôi
• Phù hợp nhất cho xử lý liên tục các mẫu dạng dây/thanh
• Quy trình mong muốn có thể cài đặt tại khu vực xử lý
• Hỗ trợ kích thước tuỳ chọn theo yêu cầu
• Tốc độ cuộn có thể điều chỉnh tuỳ ý -
- Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
- Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
- Ưa dầu (đang phát triển)
- Tạo màng mỏng
- Xử lý kị nước
- Sơn phủ / Mạ
- Dành cho R&D
Thiết bị cuộn phim liên tục kiểu Roll-to-Roll ROLL-15
• Từ cuộn cấp đến cuộn thu, toàn bộ dây chuyền đều nằm trong bộ phận xử lý.
• Dễ dàng cài đặt quy trình mong muốn
• Hỗ trợ kích thước tuỳ chỉnh theo yêu cầu
• Có thể tuỳ chỉnh tốc độ và lực căng, mang lại tính linh hoạt cao trong quá trình xử lýThiết bị cuộn phim liên tục kiểu Roll-to-Roll ROLL-15
• Từ cuộn cấp đến cuộn thu, toàn bộ dây chuyền đều nằm trong bộ phận xử lý.
• Dễ dàng cài đặt quy trình mong muốn
• Hỗ trợ kích thước tuỳ chỉnh theo yêu cầu
• Có thể tuỳ chỉnh tốc độ và lực căng, mang lại tính linh hoạt cao trong quá trình xử lý -
- Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
- Khắc / Etching
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho sản xuất
Chip kiểm tra plasma Plasma Checker
• Cách sử dụng đơn giản – chỉ cần chiếu plasma lên chip kiểm tra. Dễ dàng đánh giá hiệu quả của xử lý plasma bằng quan sát trực quan.
• Sử dụng vật liệu kim loại nên có thể sử dụng trong môi trường nhiệt độ cao.
• Có thể thay đổi độ dày của lớp phủ hoặc vật liệu theo yêu cầu của khác hàngChip kiểm tra plasma Plasma Checker
• Cách sử dụng đơn giản – chỉ cần chiếu plasma lên chip kiểm tra. Dễ dàng đánh giá hiệu quả của xử lý plasma bằng quan sát trực quan.
• Sử dụng vật liệu kim loại nên có thể sử dụng trong môi trường nhiệt độ cao.
• Có thể thay đổi độ dày của lớp phủ hoặc vật liệu theo yêu cầu của khác hàng -
- Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
- Tạo màng mỏng
- Xử lý kị nước
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
Thiết bị đo góc tiếp xúc tự động LSE-ME4
• Có thể dễ dàng lưu hình ảnh và dữ liệu góc tiếp xúc vào máy tính đi kèm.
• Dung tích giọt có thể được điều khiển từ 0.1 μL.
• Hỗ trợ lưu cả hình ảnh tĩnh và video.Thiết bị đo góc tiếp xúc tự động LSE-ME4
• Có thể dễ dàng lưu hình ảnh và dữ liệu góc tiếp xúc vào máy tính đi kèm.
• Dung tích giọt có thể được điều khiển từ 0.1 μL.
• Hỗ trợ lưu cả hình ảnh tĩnh và video.
Tìm theo danh mục
Tìm theo mục đích sử dụng
- Kỵ nước / Ưa dầu (đang phát triển)
- Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
- Ưa dầu (đang phát triển)
- Kỵ nước/dầu (đang phát triển)
- Cải thiện phân tán/kết tụ
- Khắc / Etching
- Kiểm tra độ bền plasma
- Tạo màng mỏng
- Xử lý kị nước
- Xử lý hình dạng đặc biệt (dạng phim, bột, ống, vật thể 3D, v.v.)
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất