- Nguồn cao tần RF
- Chân không
- Có thể dùng khí quy trình
- Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
- Ưa dầu (đang phát triển)
- Khắc / Etching
- Kiểm tra độ bền plasma
- Tạo màng mỏng
- Xử lý kị nước
- Sơn phủ / Mạ
- Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
- Kết dính / Bám dính
- Làm sạch / Khử khuẩn
- Dành cho R&D
- Dành cho sản xuất
Thiết bị plasma etcher bán tự động dòng CPE-S Series
Tổng quan sản phẩm
• Dòng thiết bị plasma CPE nay có thêm phiên bản bán tự động với mức giá hợp lý
• Bên cạnh vận hành thủ công, còn hỗ trợ màn hình cảm ứng dễ thao tác
• Có thể tạo sẵn các chương trình để thực hiện vận hành bán tự động chỉ bằng một nút nhấn
• Xử lý diện tích lớn đường kính lên đến φ300 mm (có thể thay đổi kích thước theo yêu cầu)
Thông số kỹ thuật
• Tên thiết bị: Thiết bị plasma bán tự động
• Mã sản phẩm: CPE-300S
• Kích thước ngoài: Rộng 562 mm × Sâu 562 mm × Cao 390 mm
• Trọng lượng: 160 kg
• Kích thước điện cực (bệ mẫu): Đường kính 300 mm
• Điều chỉnh công suất đầu ra: Có
• Hệ thống khí: 1 dòng khí. Có tuỳ chọn mở rộng lên 2 dòng khí.
• Phương pháp điều khiển dòng khí: Sử dụng MFC (Mass flow controller)
• Điều chỉnh áp suất: Sử dụng van cơ
• Nguồn điện: AC 100 V, 30 A (50 Hz/60 Hz)