Notre article a été publié dans le Nikkan Kogyo Shimbun.

Mardi 20 septembre 2022 Nikkan Kogyo Shimbun, page 13

“La nouvelle technologie de dépôt en phase vapeur par plasma de Sakigake Semiconductors améliore l’efficacité et la sécurité du dépôt de films.

Nouvelle technologie développée par notre société pour la formation directe d’un film à partir de matières premières liquides
“Type de vaporisation directe – Dépôt de couches minces “DH-CVD (Direct Humidity – Chemical Vapor Deposition)” et
Un nouveau produit, le dispositif de dépôt de couches minces par vaporisation directe “DH-CVD”, utilisant cette technologie est présenté.

J’espère que vous pourrez y jeter un coup d’œil.

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