2022年9月20日(火) 日刊工業新聞 13面
「魁半導体、プラズマＣＶＤ新技術 成膜効率・安全性を向上」
当社が新たに開発した、液体原料から直接成膜する新技術
『直接気化式-薄膜形成「DH-CVD (Direct Humidity – Chemical Vapor Deposition)」』と
その技術を用いた新製品『直接気化式-薄膜形成装置「DH-CVD」』が紹介されています。
是非ともご覧いただけますと幸いです。
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