Le PKM-VP20 est le premier bloc d’alimentation haute tension à courant alternatif de haute performance pour les systèmes compacts de plasma sous vide : Le PKM-VP20, désormais doté d’une fonction de surveillance de la puissance

Entrée à grande échelle dans l’industrie du laminage de films avec le lancement de l’unité de collage de films par plasma direct à pression atmosphérique D500-HR.

Prétraitement pour la fixation de l’adhérence et de la culture cellulaire Technologie de formation de surface d’acide polycarboxylique nouvellement développée par plasma sous vide

Réduction sans hydrogène de pièces métalliques oxydées Dispositif de réduction par vaporisation directe “DH-Reduction” publié le 20 janvier

Avis de certification “FY Reiwa 4 Kyoto Smart Products” ~SAMy Series, un appareil qui améliore la rupture des gouttes dans les cosmétiques et autres produits

Premier contrôle précis de l’industrie pour les liquides de 1 μl ou moins Mise au point d’une nouvelle technologie pour améliorer le drainage des liquides dans les conteneurs Traitement du plasma à façon dans une nouvelle usine

Avis de début de la construction d’une nouvelle usine, le “20th Anniversary Commemorative Building”, qui servira de base à de nouvelles entreprises au printemps prochain

Don de livres à l’Institut de technologie de Kyoto

Présentation de la première nouvelle technologie CVD du secteur pour un dépôt de film sûr à l’aide de matériaux liquides. Le système de dépôt de couches minces par vaporisation directe, “DH-CVD”, devrait être commercialisé le 21 septembre.

Nous avons mis au point une technologie spéciale de traitement au plasma, première dans l’industrie, qui active la poudre de PTFE dispersée dans un liquide. Cette approche innovante a permis de développer de nouveaux matériaux pour des applications telles que les peintures et les imprimantes 3D.

Nous avons mis au point le “Flip-Flop Coater FFC-400M”, un appareil à plasma sous vide qui constitue la première application pratique de l’industrie permettant d’obtenir des effets hydrofuges et hydrophiles répétés dans le cadre d’un processus à sec.

Lancement du service “Web Plasma Concierge”.

Dons à l’Institut de technologie de Kyoto – Soutien aux concours de robots pour les étudiants.

Le système de plasma sous vide “CPE-200AHM avec mécanisme de chauffage par gravure au plasma” a été lancé le 2 septembre.

Publié dans la revue scientifique britannique Scientific Reports.

Système de plasma sous vide “US-80A” lancé le 19 novembre 2020.

Le système de plasma sous vide de la série CPE-B a été lancé le 24 août 2020.

Enduit hydrofuge CFC-550 développé Nouvellement lancé le 27 juillet 2020.

Commercialisation réussie d’une nouvelle technologie de traitement par plasma des fluoropolymères solides !

Recrutement spécial suite à la propagation d’une nouvelle infection à coronavirus