• 日本語
  • English
  • Français
  • Tiếng Việt

SAKIGAKE Semiconductor logo SAKIGAKE Semiconductor logo Mở lối tương lai bằng công nghệ plasma
SAKIGAKE Semiconductor

  • product

    Thông tin sản phẩm

    Tìm theo đặc điểm

    • Xử lý bột
    • Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
    • Nguồn cao tần RF
    • Áp suất khí quyển (plasma trực tiếp)
    • Chân không
    • Không dùng khí quy trình
    • Áp suất khí quyển (plasma từ xa)
    • Có thể dùng khí quy trình

    Tìm theo mục đích sử dụng

    • Kỵ nước / Ưa dầu (đang phát triển)
    • Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
    • Ưa dầu (đang phát triển)
    • Kỵ nước/dầu (đang phát triển)
    • Cải thiện phân tán/kết tụ
    • Khắc / Etching
    • Kiểm tra độ bền plasma
    • Tạo màng mỏng
    • Xử lý kị nước
    • Xử lý hình dạng đặc biệt (dạng phim, bột, ống, vật thể 3D, v.v.)
    • Sơn phủ / Mạ
    • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
    • Kết dính / Bám dính
    • Làm sạch / Khử khuẩn
    • Dành cho R&D
    • Dành cho sản xuất
    • Cho thuê sản phẩm
    • Xử lý theo hợp đồng・
      Nghiên cứu theo yêu cầu
    Báo giá sản phẩm
  • information

    Tài liệu liên quan đến plasma

    • Plasma là gì?
    • Nguyên lý cải thiện bề mặt và làm sạch
    • Công nghệ của SAKIGAKE Semiconductor
    • Báo cáo thực nghiệm
  • company

    Về chúng tôi

  • recruit

    Nghề nghiệp

    • Nghề nghiệp
    • Phỏng vấn nhân viên kỳ cựu
    • Thông tin tuyển dụng

  • Báo giá

     


  • Liên hệ

     

products

Thông tin sản phẩm

  1. HOME
  2. 製品情報
  3. Áp suất khí quyển (plasma từ xa)

Danh mục

Mục đích

Áp suất khí quyển (plasma từ xa)

11Đã tìm thấy bài viết phù hợp

    • Xử lý bột
    • Áp suất khí quyển (plasma từ xa)
    • Cải thiện phân tán/kết tụ
    • Xử lý hình dạng đặc biệt (dạng phim, bột, ống, vật thể 3D, v.v.)
    • Sơn phủ / Mạ
    • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
    • Kết dính / Bám dính
    • Làm sạch / Khử khuẩn
    • Dành cho R&D
    • Dành cho sản xuất

    Thiết bị plasma áp suất khí quyển xử lý bột công suất lớn LLPP

    Ứng dụng công nghệ tạo lớp hạt sôi (fluidized bed) để cung cấp khí vào bột, tăng tính lưu động chất lỏng của bột

    Thiết bị plasma áp suất khí quyển xử lý bột công suất lớn LLPP

    Ứng dụng công nghệ tạo lớp hạt sôi (fluidized bed) để cung cấp khí vào bột, tăng tính lưu động chất lỏng của bột

  • «
  • 1
  • 2
category

Tìm theo danh mục

  • Xử lý bột
  • Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
  • Nguồn cao tần RF
  • Áp suất khí quyển (plasma trực tiếp)
  • Chân không
  • Không dùng khí quy trình
  • Áp suất khí quyển (plasma từ xa)
  • Có thể dùng khí quy trình
use

Tìm theo mục đích sử dụng

  • Kỵ nước / Ưa dầu (đang phát triển)
  • Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
  • Ưa dầu (đang phát triển)
  • Kỵ nước/dầu (đang phát triển)
  • Cải thiện phân tán/kết tụ
  • Khắc / Etching
  • Kiểm tra độ bền plasma
  • Tạo màng mỏng
  • Xử lý kị nước
  • Xử lý hình dạng đặc biệt (dạng phim, bột, ống, vật thể 3D, v.v.)
  • Sơn phủ / Mạ
  • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
  • Kết dính / Bám dính
  • Làm sạch / Khử khuẩn
  • Dành cho R&D
  • Dành cho sản xuất

Lên đầu trang

SAKIGAKE Semiconductor

Trụ sở

Mã bưu điện: 600-8897
SAKIGAKE Building
50 Nishishichijo Omaedacho, Shimogyo Ward, Kyoto City, Kyoto
TEL : +81-75-204-9589 FAX : +81-50-3488-5883

Văn phòng Saiin

Mã bưu điện: 615-0052
164-1, Saiin Shimizucho, Ukyo Ward, Kyoto City, Kyoto
TEL : +81-75-205-3206 FAX : +81-50-3488-5883

  • Thông tin sản phẩm
    • Danh sách sản phẩm
    • Cho thuê thiết bị, xử lý theo hợp đồng, nghiên cứu theo yêu cầu
    • Báo giá sản phẩm
  • Về chúng tôi
  • Nghề nghiệp
    • Nghề nghiệp
    • Phỏng vấn nhân viên kỳ cựu
    • Thông tin tuyển dụng
  • Tài liệu liên quan đến plasma
    • Plasma là gì?
    • Nguyên lý cải thiện bề mặt và làm sạch
    • Công nghệ của SAKIGAKE Semiconductor
    • Báo cáo thực nghiệm
  • Thông tin mới
  • Liên hệ

Chính sách bảo mật

© SAKIGAKE-Semiconductor Co., Ltd.