- 真空
- 粉体処理
- 高周波電源
- プロセスガス導入可能
- 塗装・メッキ
- 接着・密着
- 分散・凝集改善
- 培養・歯科医療
- 洗浄・殺菌
- エッチング
- 薄膜形成
- 撥水
- 撥油・防汚(技術確立中)
- 親油(技術確立中)
- 実験用
- 生産用
- 特殊形状への処理(フィルム状、粉粒体、チューブ、立体物等）
回転式卓上真空プラズマ装置 YHS-DφS
粉体やチップコンデンサの処理に最適！真空プラズマに回転機構を追加し、全面を一括で処理できるように致しました！
製品概要
表面改質・洗浄・親水処理に高い処理効果
回転式チャンバーにより、表裏を一括処理
乾式環境で粉体の表面処理が可能
チャンバー内に回転可能な筒状の電極を配備
筒状電極と対向する中心部の電極に高周波を印加し放電
処理ワークは回転チャンバー内で転がり、表裏一括に処理が可能となる。
樹脂成型品の洗浄・接着前処理MEMSの洗浄等・乾式環境での粉体表面処理などに
粉体や小部品のエッチング・薄膜形成・撥水化・酸化還元
仕様
装置名称 回転式卓上真空プラズマ装置
型式 YHS-DφS
外形寸法 820mm(W)×600mm(D)×680mm(H)
重量 100kg
回転部 φ210×200mm(D)
出力調整
ガス系統 １系統(２系統以上はオプション)
ガス制御方法 ニードルバルブ(マスフローコントローラーはオプション)
圧力調整
電源 100V,30A(50Hz/60Hz)