• 真空
  • 粉体処理
  • ガス導入不要
  • 塗装・メッキ
  • 接着・密着
  • 分散・凝集改善
  • 培養・歯科医療
  • 洗浄・殺菌
  • 実験用
  • 特殊形状への処理(フィルム状、粉粒体、チューブ、立体物等）

小型回転式真空プラズマ装置　MUG-80

真空チャンバー内に回転式の撹拌機構を導入。乾式で全面一括処理。グロー放電中で撹拌し、高い均一性を確保。回転式のためチップ等小部品を裏返す手間が不要。粉体や小部品のエッチング・薄膜形成・撥水化・酸化還元。

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製品概要

真空チャンバー内に回転式の撹拌機構を導入
乾式で全面一括処理
グロー放電中で撹拌し、高い均一性を確保
回転式のためチップ等小部品を裏返す手間が不要
粉体や小部品のエッチング・薄膜形成・撥水化・酸化還元

仕様

装置名称 小型回転式真空プラズマ装置
型式 MUG-80
外形寸法 400mm(W)×353mm(D)×340mm(H)
重量 30kg
回転部 φ80×42mm(D)
出力調整
ガス系統 オプション
ガス制御方法 オプション
圧力調整 オプション
電源 100V,15A(50Hz/60Hz)

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