- Áp suất khí quyển (plasma từ xa)
- Xử lý hình dạng đặc biệt (dạng phim, bột, ống, vật thể 3D, v.v.)
- Dành cho R&D
Thiết bị plasma hàng rào điện môi dạng phẳng SKIp-CBL300
• Thực hiện xử lý đồng đều trên diện tích 300 mm vuông
• Gần như không gây hư hại do nhiệt
• Không phải dạng plasma tập trung dòng điện như phóng điện corona
• Có thể plasma hoá mọi loại khí, không chỉ những loại khí hiếm như Ar, He mà cả nitơ và không khí cũng dễ dàng tạo được plasma
Tổng quan sản phẩm
• Tạo plasma dạng mặt phẳng, giúp xử lý đồng đều trên diện tích 300 mm vuông.
→ Phù hợp cho xử lý theo mẻ
• Hầu như không gây hư hỏng do nhiệt
→ có thể xử lý các mẫu nhạy cảm với nhiệt
• Không phải plasma tập trung như phóng điện corona
→ không gây hư hỏng điện tích cho các mẫu được xử lý
• Plasma hoá được mọi loại khí
không chỉ các khí hiếm như Ar, He, mà còn cả nitơ và không khí
Tuỳ chọn
• Tuỳ chọn nhiều dòng khí cấp vào
• Robot 1 trục, robot trục XY hoặc hệ thống cuộn liên tục
• Điều khiển bằng màn hình cảm ứng
• Thêm thiết bị phủ như phun, nhúng, phủ dạng khe slit, và hệ thống sấy
• Có thể tuỳ chỉnh theo yêu cầu khác của khách hàng
Thông số kỹ thuật
• Mã sản phẩm: SKIp-CBL300
• Diện tích xử lý tối đa: 300 mm vuông
• Áp suất quy trình: Áp suất khí quyển
• Khí khuyến nghị: Argon, nhưng các loại khí khác vẫn tạo được plasma
• Lưu lượng khí tối đa: 1000 L/min
• Điều khiển khí: Đồng hồ phao (float type) hoặc MFC (Mass Flow Controller)
• Nguồn điện: AC 200 V