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- 真空
- 高周波電源
- プロセスガス導入可能
- 塗装・メッキ
- 接着・密着
- 培養・歯科医療
- 洗浄・殺菌
- エッチング
- 薄膜形成
- 撥水
- プラズマ耐久性のテスト
- 撥油・防汚(技術確立中)
- 親油(技術確立中)
- 実験用
- 生産用
プラズマエッチャーセミオートシリーズ CPE-Sシリーズ
PTFE(テフロン)の親水化。各種素材の撥水処理。ガラス膜の形成。など
プラズマエッチャーセミオートシリーズ CPE-Sシリーズ
PTFE(テフロン)の親水化。各種素材の撥水処理。ガラス膜の形成。など
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- 真空
- 高周波電源
- プロセスガス導入可能
- 塗装・メッキ
- 接着・密着
- 培養・歯科医療
- 洗浄・殺菌
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- プラズマ耐久性のテスト
- 撥油・防汚(技術確立中)
- 親油(技術確立中)
- 実験用
- 生産用
プラズマエッチャー CPEシリーズ
SiO2やSiのエッチングなど。半導体集積回路などの微細回路を作製。
プラズマエッチャー CPEシリーズ
SiO2やSiのエッチングなど。半導体集積回路などの微細回路を作製。
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- 真空
- プロセスガス導入可能
- 塗装・メッキ
- 接着・密着
- 培養・歯科医療
- 洗浄・殺菌
- 実験用
ガス導入型真空プラズマ装置 YHS-G
様々なガス導入が可能な真空プラズマ装置。ガス流量調整・パワー調整・真空度モニター緻密な処理条件の設定が可能です。ワンタッチの簡易な操作性、導入しやすい安価な価格帯で提供させて頂きます～♪表面処理 薄膜形成前の処理 陽極接合前の処理 塗装前の処理 その他 バイオ・医療分野にも。
ガス導入型真空プラズマ装置 YHS-G
様々なガス導入が可能な真空プラズマ装置。ガス流量調整・パワー調整・真空度モニター緻密な処理条件の設定が可能です。ワンタッチの簡易な操作性、導入しやすい安価な価格帯で提供させて頂きます～♪表面処理 薄膜形成前の処理 陽極接合前の処理 塗装前の処理 その他 バイオ・医療分野にも。
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- 真空
- ガス導入不要
- 塗装・メッキ
- 接着・密着
- 培養・歯科医療
- 洗浄・殺菌
- 実験用
卓上真空プラズマ装置 YHS-R
コンパクトで安価な仕様です。表面処理 薄膜形成前の処理 陽極接合前の処理 塗装前の処理 その他 バイオ・医療分野にも。
卓上真空プラズマ装置 YHS-R
コンパクトで安価な仕様です。表面処理 薄膜形成前の処理 陽極接合前の処理 塗装前の処理 その他 バイオ・医療分野にも。
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- 真空
- ガス導入不要
- 塗装・メッキ
- 接着・密着
- 洗浄・殺菌
- 実験用
小型真空プラズマ装置 NMR-Gts
板状、繊維状、フィルム状の対象物の表面改質・クリーニングに。接着、印刷、コーティングの前処理に。細胞培養容器の前処理に(着床と増殖能が向上します)。医療系素材の滅菌に。
小型真空プラズマ装置 NMR-Gts
板状、繊維状、フィルム状の対象物の表面改質・クリーニングに。接着、印刷、コーティングの前処理に。細胞培養容器の前処理に(着床と増殖能が向上します)。医療系素材の滅菌に。
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- 真空
- 高周波電源
- プロセスガス導入可能
- 薄膜形成
- 撥水
- プラズマ耐久性のテスト
- 生産用
撥水コーター CFC-550
固体ソースを用いた撥水処理。表面に樹脂の薄膜を形成。環境への負荷を低減。その他の樹脂にも応用可能。
撥水コーター CFC-550
固体ソースを用いた撥水処理。表面に樹脂の薄膜を形成。環境への負荷を低減。その他の樹脂にも応用可能。
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- 真空
- 高周波電源
- プロセスガス導入可能
- 塗装・メッキ
- 接着・密着
- 培養・歯科医療
- 洗浄・殺菌
- エッチング
- 薄膜形成
- 撥水
- プラズマ耐久性のテスト
- 撥油・防汚(技術確立中)
- 親油(技術確立中)
- 実験用
プラズマエッチャー CPE-Bシリーズ
テフロン表面の親水化や不織布の撥水化など。
プラズマエッチャー CPE-Bシリーズ
テフロン表面の親水化や不織布の撥水化など。
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- 真空
- 高周波電源
- プロセスガス導入可能
- 塗装・メッキ
- 接着・密着
- 培養・歯科医療
- 洗浄・殺菌
- 撥水
- 生産用
大容量真空プラズマ装置 SCBシリーズ
多段式の電極で大量処理。電極構造を変えることで様々な容器に対応。ワンボタン操作も可能。生産用途に最適。
大容量真空プラズマ装置 SCBシリーズ
多段式の電極で大量処理。電極構造を変えることで様々な容器に対応。ワンボタン操作も可能。生産用途に最適。
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- 真空
- 高周波電源
- プロセスガス導入可能
- 塗装・メッキ
- 接着・密着
- 培養・歯科医療
- 洗浄・殺菌
- 撥水
- 撥油・防汚(技術確立中)
- 親油(技術確立中)
- 生産用
- 特殊形状への処理(フィルム状、粉粒体、チューブ、立体物等）
真空プラズマ装置 US-80A
一度に最大500mLボトルが80本迄プラズマ処理が可能！電極の交換により、様々な容量・形状のボトルに対応！
真空プラズマ装置 US-80A
一度に最大500mLボトルが80本迄プラズマ処理が可能！電極の交換により、様々な容量・形状のボトルに対応！
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- 大気圧(リモート)
- 実験用
- 特殊形状への処理(フィルム状、粉粒体、チューブ、立体物等）
“誘電体バリア放電装置面状タイプ SKIp-CBL300 (京都大学 酒井先生の技術)
300mm四方への均一処理を実現します。熱によるダメージは殆んどありません。コロナ放電のような電流集中したアーク状態ではありません。あらゆるガスをプラズマ化。ArやHeなどの希ガスはもちろん、窒素でも空気でも容易にプラズマ化します。
“誘電体バリア放電装置面状タイプ SKIp-CBL300 (京都大学 酒井先生の技術)
300mm四方への均一処理を実現します。熱によるダメージは殆んどありません。コロナ放電のような電流集中したアーク状態ではありません。あらゆるガスをプラズマ化。ArやHeなどの希ガスはもちろん、窒素でも空気でも容易にプラズマ化します。