• 日本語
  • English
  • Tiếng Việt

SAKIGAKE Semiconductor logo SAKIGAKE Semiconductor logo Mở lối tương lai bằng công nghệ plasma
SAKIGAKE Semiconductor

  • product

    Thông tin sản phẩm

    Tìm theo đặc điểm

    • Xử lý bột
    • Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
    • Nguồn cao tần RF
    • Áp suất khí quyển (plasma trực tiếp)
    • Chân không
    • Không dùng khí quy trình
    • Áp suất khí quyển (plasma từ xa)
    • Có thể dùng khí quy trình

    Tìm theo mục đích sử dụng

    • Kỵ nước / Ưa dầu (đang phát triển)
    • Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
    • Ưa dầu (đang phát triển)
    • Kỵ nước/dầu (đang phát triển)
    • Cải thiện phân tán/kết tụ
    • Khắc / Etching
    • Kiểm tra độ bền plasma
    • Tạo màng mỏng
    • Xử lý kị nước
    • Xử lý hình dạng đặc biệt (dạng phim, bột, ống, vật thể 3D, v.v.)
    • Sơn phủ / Mạ
    • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
    • Kết dính / Bám dính
    • Làm sạch / Khử khuẩn
    • Dành cho R&D
    • Dành cho sản xuất
    • Cho thuê sản phẩm
    • Xử lý theo hợp đồng・
      Nghiên cứu theo yêu cầu
    Báo giá sản phẩm
  • information

    Tài liệu liên quan đến plasma

    • Plasma là gì?
    • Nguyên lý cải thiện bề mặt và làm sạch
    • Công nghệ của SAKIGAKE Semiconductor
    • Báo cáo thực nghiệm
  • company

    Về chúng tôi

  • recruit

    Nghề nghiệp

    • Nghề nghiệp
    • Phỏng vấn nhân viên kỳ cựu
    • Thông tin tuyển dụng

  • Báo giá

     


  • Liên hệ

     

products

Sản phẩm

  1. HOME
  2. Sản phẩm

Danh mục

Mục đích

    • Chân không
    • Có thể dùng khí quy trình
    • Nguồn cao tần RF
    • Dành cho R&D
    • Dành cho sản xuất
    • Kết dính / Bám dính
    • Khắc / Etching
    • Kiểm tra độ bền plasma
    • Làm sạch / Khử khuẩn
    • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
    • Sơn phủ / Mạ
    • Tạo màng mỏng
    • Xử lý kị nước

    Máy plasma khắc (etcher) có tích hợp gia nhiệt CPE-200AHM

    Khắc khô các lớp SiO₂ (etching), Si và phân hủy (ashing) các hợp chất hữu cơ với tốc độ cao và hiệu quả cao nhờ chức năng gia nhiệt.

    Máy plasma khắc (etcher) có tích hợp gia nhiệt CPE-200AHM

    Khắc khô các lớp SiO₂ (etching), Si và phân hủy (ashing) các hợp chất hữu cơ với tốc độ cao và hiệu quả cao nhờ chức năng gia nhiệt.

    Thông tin tuyển dụng

    Thông tin tuyển dụng

    Báo cáo thực nghiệm

    Báo cáo thực nghiệm

    Plasma là gì

    Plasma là gì

    Công nghệ của SAKIGAKE Semiconductor

    Công nghệ của SAKIGAKE Semiconductor

    Nguyên lý cải thiện và làm sạch bề mặt

    Nguyên lý cải thiện và làm sạch bề mặt

    • Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
    • Dành cho R&D
    • Kết dính / Bám dính
    • Làm sạch / Khử khuẩn
    • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
    • Sơn phủ / Mạ
    • Tạo màng mỏng
    • Xử lý kị nước

    Thiết bị đo góc tiếp xúc tự động LSE-ME4

    • Có thể dễ dàng lưu hình ảnh và dữ liệu góc tiếp xúc vào máy tính đi kèm.
    • Dung tích giọt có thể được điều khiển từ 0.1 μL.
    • Hỗ trợ lưu cả hình ảnh tĩnh và video.

    Thiết bị đo góc tiếp xúc tự động LSE-ME4

    • Có thể dễ dàng lưu hình ảnh và dữ liệu góc tiếp xúc vào máy tính đi kèm.
    • Dung tích giọt có thể được điều khiển từ 0.1 μL.
    • Hỗ trợ lưu cả hình ảnh tĩnh và video.

    • Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
    • Cải thiện phân tán/kết tụ
    • Dành cho R&D
    • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa

    Thiết bị cấp bột dạng để bàn Z03-10

    • Vận hành đơn giản từ máy tính. Cung cấp bột chính xác cao nhờ bộ truyền động định lượng chính xác
    • Khi kết hợp với cân điện tử có chức năng giao tiếp (tuỳ chọn), có thể cấp nguyên liệu với độ chính xác cao hơn.
    • Thiết kế để bàn, nhỏ gọn.

    Thiết bị cấp bột dạng để bàn Z03-10

    • Vận hành đơn giản từ máy tính. Cung cấp bột chính xác cao nhờ bộ truyền động định lượng chính xác
    • Khi kết hợp với cân điện tử có chức năng giao tiếp (tuỳ chọn), có thể cấp nguyên liệu với độ chính xác cao hơn.
    • Thiết kế để bàn, nhỏ gọn.

    • Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
    • Cải thiện phân tán/kết tụ
    • Dành cho R&D
    • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa

    Thiết bị cấp bột vi lượng KDB-14A

    • Điều khiển lượng cấp bằng màn hình cảm ứng, giao diện dễ sử dụng.
    • Có thể kết hợp với thiết bị plasma bề mặt chất lỏng áp suất khí quyển để xử lý liên tục.

    Thiết bị cấp bột vi lượng KDB-14A

    • Điều khiển lượng cấp bằng màn hình cảm ứng, giao diện dễ sử dụng.
    • Có thể kết hợp với thiết bị plasma bề mặt chất lỏng áp suất khí quyển để xử lý liên tục.

    • Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
    • Dành cho R&D
    • Làm sạch / Khử khuẩn
    • Sơn phủ / Mạ
    • Tạo màng mỏng

    Máy phun điện ESC-100

    • Tạo màng mỏng có độ đồng đều cao (có thể đạt đến vài micromet).
    • Phun phủ ở nhiệt độ phòng và áp suất khí quyển, không cần môi trường chân không hay nhiệt độ cao.
    • Không làm bẩn tấm mask, dễ dàng bảo trì.

    Máy phun điện ESC-100

    • Tạo màng mỏng có độ đồng đều cao (có thể đạt đến vài micromet).
    • Phun phủ ở nhiệt độ phòng và áp suất khí quyển, không cần môi trường chân không hay nhiệt độ cao.
    • Không làm bẩn tấm mask, dễ dàng bảo trì.

  • «
  • 1
  • 2
  • 3
  • 4
  • 5
  • ...
  • »
category

Tìm theo danh mục

  • Xử lý bột
  • Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
  • Nguồn cao tần RF
  • Áp suất khí quyển (plasma trực tiếp)
  • Chân không
  • Không dùng khí quy trình
  • Áp suất khí quyển (plasma từ xa)
  • Có thể dùng khí quy trình
use

Tìm theo mục đích sử dụng

  • Kỵ nước / Ưa dầu (đang phát triển)
  • Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
  • Ưa dầu (đang phát triển)
  • Kỵ nước/dầu (đang phát triển)
  • Cải thiện phân tán/kết tụ
  • Khắc / Etching
  • Kiểm tra độ bền plasma
  • Tạo màng mỏng
  • Xử lý kị nước
  • Xử lý hình dạng đặc biệt (dạng phim, bột, ống, vật thể 3D, v.v.)
  • Sơn phủ / Mạ
  • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
  • Kết dính / Bám dính
  • Làm sạch / Khử khuẩn
  • Dành cho R&D
  • Dành cho sản xuất

Lên đầu trang

SAKIGAKE Semiconductor

Trụ sở

Mã bưu điện: 600-8897
SAKIGAKE Building
50 Nishishichijo Omaedacho, Shimogyo Ward, Kyoto City, Kyoto
TEL : +81-75-204-9589 FAX : +81-50-3488-5883

Văn phòng Saiin

Mã bưu điện: 615-0052
164-1, Saiin Shimizucho, Ukyo Ward, Kyoto City, Kyoto
TEL : +81-75-205-3206 FAX : +81-50-3488-5883

  • Thông tin sản phẩm
    • Danh sách sản phẩm
    • Cho thuê thiết bị, xử lý theo hợp đồng, nghiên cứu theo yêu cầu
    • Báo giá sản phẩm
  • Về chúng tôi
  • Nghề nghiệp
    • Nghề nghiệp
    • Phỏng vấn nhân viên kỳ cựu
    • Thông tin tuyển dụng
  • Tài liệu liên quan đến plasma
    • Plasma là gì?
    • Nguyên lý cải thiện bề mặt và làm sạch
    • Công nghệ của SAKIGAKE Semiconductor
    • Báo cáo thực nghiệm
  • Thông tin mới
  • Liên hệ

Chính sách bảo mật

© SAKIGAKE-Semiconductor Co., Ltd.