• 日本語
  • English
  • Tiếng Việt

SAKIGAKE Semiconductor logo SAKIGAKE Semiconductor logo Mở lối tương lai bằng công nghệ plasma
SAKIGAKE Semiconductor

  • product

    Thông tin sản phẩm

    Tìm theo đặc điểm

    • Xử lý bột
    • Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
    • Nguồn cao tần RF
    • Áp suất khí quyển (plasma trực tiếp)
    • Chân không
    • Không dùng khí quy trình
    • Áp suất khí quyển (plasma từ xa)
    • Có thể dùng khí quy trình

    Tìm theo mục đích sử dụng

    • Kỵ nước / Ưa dầu (đang phát triển)
    • Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
    • Ưa dầu (đang phát triển)
    • Kỵ nước/dầu (đang phát triển)
    • Cải thiện phân tán/kết tụ
    • Khắc / Etching
    • Kiểm tra độ bền plasma
    • Tạo màng mỏng
    • Xử lý kị nước
    • Xử lý hình dạng đặc biệt (dạng phim, bột, ống, vật thể 3D, v.v.)
    • Sơn phủ / Mạ
    • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
    • Kết dính / Bám dính
    • Làm sạch / Khử khuẩn
    • Dành cho R&D
    • Dành cho sản xuất
    • Cho thuê sản phẩm
    • Xử lý theo hợp đồng・
      Nghiên cứu theo yêu cầu
    Báo giá sản phẩm
  • information

    Tài liệu liên quan đến plasma

    • Plasma là gì?
    • Nguyên lý cải thiện bề mặt và làm sạch
    • Công nghệ của SAKIGAKE Semiconductor
    • Báo cáo thực nghiệm
  • company

    Về chúng tôi

  • recruit

    Nghề nghiệp

    • Nghề nghiệp
    • Phỏng vấn nhân viên kỳ cựu
    • Thông tin tuyển dụng

  • Báo giá

     


  • Liên hệ

     

products

Sản phẩm

  1. HOME
  2. Sản phẩm

Danh mục

Mục đích

    • Chân không
    • Có thể dùng khí quy trình
    • Xử lý kị nước
    • Sơn phủ / Mạ
    • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
    • Kết dính / Bám dính
    • Làm sạch / Khử khuẩn
    • Dành cho R&D

    Thiết bị chống thấm nước để bàn YHS-Ω

    • Tạo tính chống thấm cho nhiều loại vật liệu.
    • Dùng cho vải, giấy để chống nước, chống bám bẩn, chống ẩm.
    • Cũng thích hợp để chống nước cho các linh kiện điện tử.

    Thiết bị chống thấm nước để bàn YHS-Ω

    • Tạo tính chống thấm cho nhiều loại vật liệu.
    • Dùng cho vải, giấy để chống nước, chống bám bẩn, chống ẩm.
    • Cũng thích hợp để chống nước cho các linh kiện điện tử.

    • Nguồn cao tần RF
    • Chân không
    • Có thể dùng khí quy trình
    • Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
    • Ưa dầu (đang phát triển)
    • Khắc / Etching
    • Kiểm tra độ bền plasma
    • Tạo màng mỏng
    • Xử lý kị nước
    • Sơn phủ / Mạ
    • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
    • Kết dính / Bám dính
    • Làm sạch / Khử khuẩn
    • Dành cho R&D
    • Dành cho sản xuất

    Thiết bị plasma etcher bán tự động dòng CPE-S Series

    Tạo tính ưa nước cho PTFE (Teflon), xử lý chống thấm nước cho nhiều loại vật liệu, tạo màng kính, v.v.

    Thiết bị plasma etcher bán tự động dòng CPE-S Series

    Tạo tính ưa nước cho PTFE (Teflon), xử lý chống thấm nước cho nhiều loại vật liệu, tạo màng kính, v.v.

    • Nguồn cao tần RF
    • Chân không
    • Có thể dùng khí quy trình
    • Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
    • Ưa dầu (đang phát triển)
    • Khắc / Etching
    • Kiểm tra độ bền plasma
    • Tạo màng mỏng
    • Xử lý kị nước
    • Sơn phủ / Mạ
    • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
    • Kết dính / Bám dính
    • Làm sạch / Khử khuẩn
    • Dành cho R&D
    • Dành cho sản xuất

    Thiết bị plasma etcher dòng CPE Series

    Dùng cho etching SiO₂, Si, thích hợp với quy trình chế tạo mạch tích hợp bán dẫn có cấu trúc vi mô

    Thiết bị plasma etcher dòng CPE Series

    Dùng cho etching SiO₂, Si, thích hợp với quy trình chế tạo mạch tích hợp bán dẫn có cấu trúc vi mô

    • Chân không
    • Có thể dùng khí quy trình
    • Sơn phủ / Mạ
    • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
    • Kết dính / Bám dính
    • Làm sạch / Khử khuẩn
    • Dành cho R&D

    Thiết bị plasma chân không hỗ trợ nhiều loại khí quy trình YHS-G

    • Thiết bị plasma chân không hỗ trợ nhiều loại khí quy trình.
    • Cho phép thiết lập điều kiện xử lý một cách tinh chỉnh nhờ khả năng điều chỉnh lưu lượng khí, công suất phát plasma, và giám sát áp suất chân không.
    • Vận hành đơn giản bằng một nút bấm, dễ dàng trang bị với chi phí phù hợp.
    • Dùng để xử lý bề mặt trước khi tạo màng mỏng, xử lý trước khi hàn anod, xử lý trước khi sơn phủ, cũng như trong các ứng dụng sinh học và y tế.

    Thiết bị plasma chân không hỗ trợ nhiều loại khí quy trình YHS-G

    • Thiết bị plasma chân không hỗ trợ nhiều loại khí quy trình.
    • Cho phép thiết lập điều kiện xử lý một cách tinh chỉnh nhờ khả năng điều chỉnh lưu lượng khí, công suất phát plasma, và giám sát áp suất chân không.
    • Vận hành đơn giản bằng một nút bấm, dễ dàng trang bị với chi phí phù hợp.
    • Dùng để xử lý bề mặt trước khi tạo màng mỏng, xử lý trước khi hàn anod, xử lý trước khi sơn phủ, cũng như trong các ứng dụng sinh học và y tế.

    • Chân không
    • Không dùng khí quy trình
    • Sơn phủ / Mạ
    • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
    • Kết dính / Bám dính
    • Làm sạch / Khử khuẩn
    • Dành cho R&D

    Thiết bị chân không để bàn YHS-R

    Thiết kế nhỏ gọn, chi phí phù hợp. Thích hợp cho xử lý bề mặt, xử lý trước khi tạo màng mỏng, trước khi hàn anod, trước khi sơn phủ, cùng nhiều ứng dụng khác trong sinh học và y tế

    Thiết bị chân không để bàn YHS-R

    Thiết kế nhỏ gọn, chi phí phù hợp. Thích hợp cho xử lý bề mặt, xử lý trước khi tạo màng mỏng, trước khi hàn anod, trước khi sơn phủ, cùng nhiều ứng dụng khác trong sinh học và y tế

    • Chân không
    • Không dùng khí quy trình
    • Sơn phủ / Mạ
    • Kết dính / Bám dính
    • Làm sạch / Khử khuẩn
    • Dành cho R&D

    Thiết bị plasma chân không cỡ nhỏ NMR-Gts

    • Dùng để xử lý bề mặt và làm sạch các vật liệu dạng tấm, dạng sợi, dạng phim.
    • Thích hợp cho xử lý trước khi dán, in, phủ; xử lý trước cho đĩa nuôi cấy tế bào (giúp tăng khả năng bám và phát triển của tế bào); và khử khuẩn các vật liệu y tế.

    Thiết bị plasma chân không cỡ nhỏ NMR-Gts

    • Dùng để xử lý bề mặt và làm sạch các vật liệu dạng tấm, dạng sợi, dạng phim.
    • Thích hợp cho xử lý trước khi dán, in, phủ; xử lý trước cho đĩa nuôi cấy tế bào (giúp tăng khả năng bám và phát triển của tế bào); và khử khuẩn các vật liệu y tế.

    • Nguồn cao tần RF
    • Chân không
    • Có thể dùng khí quy trình
    • Kiểm tra độ bền plasma
    • Tạo màng mỏng
    • Xử lý kị nước
    • Dành cho sản xuất

    Máy phủ chống thấm nước CFC-550

    • Xử lý chống thấm bằng nguồn vật liệu rắn
    • Tạo màng mỏng bằng nhựa trên bề mặt vật thể
    • Giảm thiểu các tác động đến môi trường
    • Có thể ứng dụng với nhiều loại nhựa khác nhau

    Máy phủ chống thấm nước CFC-550

    • Xử lý chống thấm bằng nguồn vật liệu rắn
    • Tạo màng mỏng bằng nhựa trên bề mặt vật thể
    • Giảm thiểu các tác động đến môi trường
    • Có thể ứng dụng với nhiều loại nhựa khác nhau

    • Nguồn cao tần RF
    • Chân không
    • Có thể dùng khí quy trình
    • Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
    • Ưa dầu (đang phát triển)
    • Khắc / Etching
    • Kiểm tra độ bền plasma
    • Tạo màng mỏng
    • Xử lý kị nước
    • Sơn phủ / Mạ
    • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
    • Kết dính / Bám dính
    • Làm sạch / Khử khuẩn
    • Dành cho R&D

    Thiết bị plasma etcher dòng CPE-B Series

    Ví dụ, làm cho bề mặt Teflon trở nên ưa nước hoặc răng tính chống thấm nước của vải không dệt

    Thiết bị plasma etcher dòng CPE-B Series

    Ví dụ, làm cho bề mặt Teflon trở nên ưa nước hoặc răng tính chống thấm nước của vải không dệt

    • Nguồn cao tần RF
    • Chân không
    • Có thể dùng khí quy trình
    • Xử lý kị nước
    • Sơn phủ / Mạ
    • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
    • Kết dính / Bám dính
    • Làm sạch / Khử khuẩn
    • Dành cho sản xuất

    Thiết bị plasma chân không dung tích lớn dòng SCB Series

    • Có thể xử lý số lượng mẫu lớn bằng hệ thống điện cực nhiều tầng.
    • Có thể thay đổi cấu trúc điện cực để phù hợp với nhiều loại vật chứa khác nhau.
    • Hỗ trợ vận hành nhờ chế độ tự động chỉ với 1 nút bấm
    • Thiết kế hướng đến mục đích sản xuất.

    Thiết bị plasma chân không dung tích lớn dòng SCB Series

    • Có thể xử lý số lượng mẫu lớn bằng hệ thống điện cực nhiều tầng.
    • Có thể thay đổi cấu trúc điện cực để phù hợp với nhiều loại vật chứa khác nhau.
    • Hỗ trợ vận hành nhờ chế độ tự động chỉ với 1 nút bấm
    • Thiết kế hướng đến mục đích sản xuất.

    • Nguồn cao tần RF
    • Chân không
    • Có thể dùng khí quy trình
    • Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
    • Ưa dầu (đang phát triển)
    • Xử lý kị nước
    • Xử lý hình dạng đặc biệt (dạng phim, bột, ống, vật thể 3D, v.v.)
    • Sơn phủ / Mạ
    • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
    • Kết dính / Bám dính
    • Làm sạch / Khử khuẩn
    • Dành cho sản xuất

    Thiết bị plasma chân không US-80A

    • Xử lý đồng thời lên đến 80 chai nhựa dung tích 500 mL
    • Có thể thay đổi điện cực để tương thích với nhiều loại chai với dung tích và hình dạng khác nhau

    Thiết bị plasma chân không US-80A

    • Xử lý đồng thời lên đến 80 chai nhựa dung tích 500 mL
    • Có thể thay đổi điện cực để tương thích với nhiều loại chai với dung tích và hình dạng khác nhau

  • «
  • «
  • ...
  • 2
  • 3
  • 4
  • 5
  • 6
  • ...
  • »
category

Tìm theo danh mục

  • Xử lý bột
  • Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
  • Nguồn cao tần RF
  • Áp suất khí quyển (plasma trực tiếp)
  • Chân không
  • Không dùng khí quy trình
  • Áp suất khí quyển (plasma từ xa)
  • Có thể dùng khí quy trình
use

Tìm theo mục đích sử dụng

  • Kỵ nước / Ưa dầu (đang phát triển)
  • Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
  • Ưa dầu (đang phát triển)
  • Kỵ nước/dầu (đang phát triển)
  • Cải thiện phân tán/kết tụ
  • Khắc / Etching
  • Kiểm tra độ bền plasma
  • Tạo màng mỏng
  • Xử lý kị nước
  • Xử lý hình dạng đặc biệt (dạng phim, bột, ống, vật thể 3D, v.v.)
  • Sơn phủ / Mạ
  • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
  • Kết dính / Bám dính
  • Làm sạch / Khử khuẩn
  • Dành cho R&D
  • Dành cho sản xuất

Lên đầu trang

SAKIGAKE Semiconductor

Trụ sở

Mã bưu điện: 600-8897
SAKIGAKE Building
50 Nishishichijo Omaedacho, Shimogyo Ward, Kyoto City, Kyoto
TEL : +81-75-204-9589 FAX : +81-50-3488-5883

Văn phòng Saiin

Mã bưu điện: 615-0052
164-1, Saiin Shimizucho, Ukyo Ward, Kyoto City, Kyoto
TEL : +81-75-205-3206 FAX : +81-50-3488-5883

  • Thông tin sản phẩm
    • Danh sách sản phẩm
    • Cho thuê thiết bị, xử lý theo hợp đồng, nghiên cứu theo yêu cầu
    • Báo giá sản phẩm
  • Về chúng tôi
  • Nghề nghiệp
    • Nghề nghiệp
    • Phỏng vấn nhân viên kỳ cựu
    • Thông tin tuyển dụng
  • Tài liệu liên quan đến plasma
    • Plasma là gì?
    • Nguyên lý cải thiện bề mặt và làm sạch
    • Công nghệ của SAKIGAKE Semiconductor
    • Báo cáo thực nghiệm
  • Thông tin mới
  • Liên hệ

Chính sách bảo mật

© SAKIGAKE-Semiconductor Co., Ltd.