• 日本語
  • English
  • Tiếng Việt

SAKIGAKE Semiconductor logo SAKIGAKE Semiconductor logo Mở lối tương lai bằng công nghệ plasma
SAKIGAKE Semiconductor

  • product

    Thông tin sản phẩm

    Tìm theo đặc điểm

    • Xử lý bột
    • Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
    • Nguồn cao tần RF
    • Áp suất khí quyển (plasma trực tiếp)
    • Chân không
    • Không dùng khí quy trình
    • Áp suất khí quyển (plasma từ xa)
    • Có thể dùng khí quy trình

    Tìm theo mục đích sử dụng

    • Kỵ nước / Ưa dầu (đang phát triển)
    • Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
    • Ưa dầu (đang phát triển)
    • Kỵ nước/dầu (đang phát triển)
    • Cải thiện phân tán/kết tụ
    • Khắc / Etching
    • Kiểm tra độ bền plasma
    • Tạo màng mỏng
    • Xử lý kị nước
    • Xử lý hình dạng đặc biệt (dạng phim, bột, ống, vật thể 3D, v.v.)
    • Sơn phủ / Mạ
    • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
    • Kết dính / Bám dính
    • Làm sạch / Khử khuẩn
    • Dành cho R&D
    • Dành cho sản xuất
    • Cho thuê sản phẩm
    • Xử lý theo hợp đồng・
      Nghiên cứu theo yêu cầu
    Báo giá sản phẩm
  • information

    Tài liệu liên quan đến plasma

    • Plasma là gì?
    • Nguyên lý cải thiện bề mặt và làm sạch
    • Công nghệ của SAKIGAKE Semiconductor
    • Báo cáo thực nghiệm
  • company

    Về chúng tôi

  • recruit

    Nghề nghiệp

    • Nghề nghiệp
    • Phỏng vấn nhân viên kỳ cựu
    • Thông tin tuyển dụng

  • Báo giá

     


  • Liên hệ

     

products

Sản phẩm

  1. HOME
  2. Sản phẩm

Danh mục

Mục đích

    • Áp suất khí quyển (plasma từ xa)
    • Có thể dùng khí quy trình
    • Dành cho sản xuất

    Thiết bị plasma áp suất khí quyển OR-50

    Hệ thống plasma áp suất khí quyển với cấu trúc mới không tạo ra tạp chất hạt kim loại

    Thiết bị plasma áp suất khí quyển OR-50

    Hệ thống plasma áp suất khí quyển với cấu trúc mới không tạo ra tạp chất hạt kim loại

    • Chân không
    • Không dùng khí quy trình
    • Dành cho R&D
    • Dành cho sản xuất
    • Kết dính / Bám dính
    • Làm sạch / Khử khuẩn

    Thiết bị plasma chân không dành cho kim tiêm – TSM-90

    • Thiết bị TSM-90 là dòng plasma chân không chuyên dụng cho kim tiêm, lần đầu tiên được phát triển trong ngành.
    • Công nghệ plasma giúp tăng hoạt tính bề mặt, loại bỏ tạp chất, từ đó nâng cao độ bám dính giữa kim và phần đế, đặc biệt quan trọng trong sản xuất kim tiêm y tế.
    • Sử dụng công nghệ quy trình khô không dùng hóa chất, TSM-90 mang lại giải pháp thân thiện với môi trường.

    Thiết bị plasma chân không dành cho kim tiêm – TSM-90

    • Thiết bị TSM-90 là dòng plasma chân không chuyên dụng cho kim tiêm, lần đầu tiên được phát triển trong ngành.
    • Công nghệ plasma giúp tăng hoạt tính bề mặt, loại bỏ tạp chất, từ đó nâng cao độ bám dính giữa kim và phần đế, đặc biệt quan trọng trong sản xuất kim tiêm y tế.
    • Sử dụng công nghệ quy trình khô không dùng hóa chất, TSM-90 mang lại giải pháp thân thiện với môi trường.

    • Chân không
    • Không dùng khí quy trình
    • Dành cho R&D
    • Dành cho sản xuất
    • Kết dính / Bám dính
    • Làm sạch / Khử khuẩn
    • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
    • Sơn phủ / Mạ

    Nguồn cao áp xoay chiều cho thiết bị plasma chân không cỡ nhỏ – PKM-VP20

    Nguồn điện chuyên dụng hiệu năng cao dùng cho plasma đầu tiên trong ngành.

    Nguồn cao áp xoay chiều cho thiết bị plasma chân không cỡ nhỏ – PKM-VP20

    Nguồn điện chuyên dụng hiệu năng cao dùng cho plasma đầu tiên trong ngành.

    • Áp suất khí quyển (plasma từ xa)
    • Dành cho R&D
    • Kết dính / Bám dính
    • Làm sạch / Khử khuẩn
    • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
    • Sơn phủ / Mạ

    Thiết bị plasma áp suất khí quyển dạng bút P500-SM

    Gần như không gây hư hại do nhiệt

    Thiết bị plasma áp suất khí quyển dạng bút P500-SM

    Gần như không gây hư hại do nhiệt

    Giới thiệu công nghệ của SAKIGAKE Semiconductor

    Giới thiệu công nghệ của SAKIGAKE Semiconductor

    Công nghệ duy trì đặc tính biến đổi bề mặt trong thời gian dài bằng cách sử dụng phương pháp xử lý plasma

    Công nghệ duy trì đặc tính biến đổi bề mặt trong thời gian dài bằng cách sử dụng phương pháp xử lý plasma

    Giới thiệu về SAKIGAKE Semiconductor

    Giới thiệu về SAKIGAKE Semiconductor

    • Áp suất khí quyển (plasma trực tiếp)
    • Có thể dùng khí quy trình
    • Không dùng khí quy trình
    • Dành cho sản xuất
    • Kết dính / Bám dính
    • Làm sạch / Khử khuẩn
    • Sơn phủ / Mạ
    • Xử lý hình dạng đặc biệt (dạng phim, bột, ống, vật thể 3D, v.v.)

    Thiết bị ép phim bằng plasma trực tiếp áp suất khí quyển D500-HR

    Thiết bị sử dụng plasma trực tiếp bằng phóng điện hàng rào điện môi (DBD), có khả năng xử lý đồng thời hai lớp phim và thực hiện ép nhiệt ngay sau đó.

    Thiết bị ép phim bằng plasma trực tiếp áp suất khí quyển D500-HR

    Thiết bị sử dụng plasma trực tiếp bằng phóng điện hàng rào điện môi (DBD), có khả năng xử lý đồng thời hai lớp phim và thực hiện ép nhiệt ngay sau đó.

    • Chân không
    • Có thể dùng khí quy trình
    • Không dùng khí quy trình
    • Dành cho R&D
    • Tạo màng mỏng
    • Xử lý kị nước

    Thiết bị tạo màng mỏng bằng phương pháp bay hơi trực tiếp DH-CVD

    Thiết bị plasma CVD an toàn đầu tiên trong ngành, tạo màng trực tiếp từ nguyên liệu dạng lỏng.

    Thiết bị tạo màng mỏng bằng phương pháp bay hơi trực tiếp DH-CVD

    Thiết bị plasma CVD an toàn đầu tiên trong ngành, tạo màng trực tiếp từ nguyên liệu dạng lỏng.

    Dịch vụ

    Dịch vụ

  • 1
  • 2
  • 3
  • 4
  • 5
  • ...
  • »
category

Tìm theo danh mục

  • Xử lý bột
  • Khác (Thiết bị kiểm tra, hệ thống vận chuyển)
  • Nguồn cao tần RF
  • Áp suất khí quyển (plasma trực tiếp)
  • Chân không
  • Không dùng khí quy trình
  • Áp suất khí quyển (plasma từ xa)
  • Có thể dùng khí quy trình
use

Tìm theo mục đích sử dụng

  • Kỵ nước / Ưa dầu (đang phát triển)
  • Chống dầu/vết bẩn (đang phát triển)
  • Ưa dầu (đang phát triển)
  • Kỵ nước/dầu (đang phát triển)
  • Cải thiện phân tán/kết tụ
  • Khắc / Etching
  • Kiểm tra độ bền plasma
  • Tạo màng mỏng
  • Xử lý kị nước
  • Xử lý hình dạng đặc biệt (dạng phim, bột, ống, vật thể 3D, v.v.)
  • Sơn phủ / Mạ
  • Nuôi cấy tế bào / Y tế nha khoa
  • Kết dính / Bám dính
  • Làm sạch / Khử khuẩn
  • Dành cho R&D
  • Dành cho sản xuất

Lên đầu trang

SAKIGAKE Semiconductor

Trụ sở

Mã bưu điện: 600-8897
SAKIGAKE Building
50 Nishishichijo Omaedacho, Shimogyo Ward, Kyoto City, Kyoto
TEL : +81-75-204-9589 FAX : +81-50-3488-5883

Văn phòng Saiin

Mã bưu điện: 615-0052
164-1, Saiin Shimizucho, Ukyo Ward, Kyoto City, Kyoto
TEL : +81-75-205-3206 FAX : +81-50-3488-5883

  • Thông tin sản phẩm
    • Danh sách sản phẩm
    • Cho thuê thiết bị, xử lý theo hợp đồng, nghiên cứu theo yêu cầu
    • Báo giá sản phẩm
  • Về chúng tôi
  • Nghề nghiệp
    • Nghề nghiệp
    • Phỏng vấn nhân viên kỳ cựu
    • Thông tin tuyển dụng
  • Tài liệu liên quan đến plasma
    • Plasma là gì?
    • Nguyên lý cải thiện bề mặt và làm sạch
    • Công nghệ của SAKIGAKE Semiconductor
    • Báo cáo thực nghiệm
  • Thông tin mới
  • Liên hệ

Chính sách bảo mật

© SAKIGAKE-Semiconductor Co., Ltd.